【課題】光起電モジュールの酸化亜鉛製の前側電極層をパターン加工するための方法を提供する。
【解決手段】光起電モジュールの製造時に透明な電気絶縁性の基板２上に成膜された酸化亜鉛製の前側電極層３をパターン加工するために、赤外放射を発する短いパルス幅のパルス状固体レーザ１３が使用される。特に、５００ｎｓ未満の短いパルス幅を有するパルス状のレーザであって、赤外放射を発するレーザ１３が使用される。好ましくは、前記レーザ１３のパルス幅が、２００ｎｓ未満である。また、好ましくは、前記レーザが、ＣＷポンプ式であり、パルスの生成が、クオリティ・スイッチ・モードで行われる。 （もっと読む）

【課題】起電モジュールの製造時に縁において層を除去するための方法であって、一方では生産性が高く、他方では高い絶縁強度を有するモジュールをもたらす方法を提供する。
【解決手段】光起電モジュール１を製造するために、透明な前側電極層３と半導体層４と後ろ側電極層５とを機能層として透明な基板２へと成膜し、その後に機能層３〜５を赤外放射を発するレーザによって該モジュール１の縁領域１０において該基板２から除去し、次いで後ろカバー１２を接着フィルム１１によって前記被覆された基板２へと積層する。前記モジュール１の該縁領域１０において該機能層３〜５を除去する除去速度が、該機能層３〜５へと集中させられるレーザビームの少なくとも２０ｍＪ／ｍｍ^２のエネルギー密度および少なくとも１ｋＨｚのレーザのパルス繰り返し速度により、残留の材料を該縁領域１０において該基板２上に残しつつ、少なくとも１０００ｍｍ^２／ｓである。 （もっと読む）

【課題】直列接続されたセルを備える光起電力モジュールの分割線を形成する。
【解決手段】直列接続されたセルを有する光起電モジュールを製造する際に、基体１上に堆積された機能層２に形成される分割線を形成するために、レーザスキャナ８が使用され、レーザスキャナ８のレーザビーム１４が、レーザビーム１４によって走査されるフィールド１７において、機能層２に複数の隣り合う分割線部分を形成する。次いで、レーザスキャナ８が、分割線の方向（Ｙ）に、最大で走査されたフィールド１７の長さ（Ｌ）に相当する距離だけ、被覆された基体１に対して動かされることで、互いに同一平面上にある分割線部分によって連続的な分割線が形成される。 （もっと読む）

【課題】直列接続されたセルを有する光起電モジュールを製造する際に、基板上に製膜された機能層に形成される分割線を、隣接したフィールドの分割線部分の重なり合いを保証して形成する方法を提供する。
【解決手段】レーザスキャナのレーザビームが、機能層に横並びで配置される複数の分割線部分１８、１８’を、レーザビームによって走査されるフィールド１７に形成する。レーザスキャナが、被膜付きの基板に対して分割線の方向に動かされ、隣り合うフィールド１７、１７’の重なり合いを生じさせる。同時に、レーザスキャナが、隣り合うフィールドの分割線部分の端部３１、３２が重なり合う捕捉領域を形成するために、少なくとも一端３２がフック状の構成である分割線部分を形成する。 （もっと読む）

【課題】銀の反射層に高い反射率を達成する付着向上層を設けた光起電力モジュールおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】光起電モジュールが、透明な基板上に、透明な前側電極層、半導体層３、および後ろ側電極層４を有している。後ろ側電極層４が、銀の層７と、ドープされた半導体で構成されて銀の層７と半導体層３との間に位置する中間層５とを有している。銅の層６が、銀の層７と中間層５との間に設けられている。好ましくは、前記銀の層７の層の厚さが、５０〜５００ｎｍ、前記銅の層６の層の厚さが、１〜５０ｎｍ、前記中間層５の層の厚さが、１０〜３００ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】光起電モジュールの工業生産におけるコストを大幅に削減することである。
【構成】光起電モジュール（１）を製造するため、前側電極層（３）、半導体層（４）、および後ろ側電極層（５）が、赤外放射を発するレーザ（１４）によって、直列接続されたセル（Ｃ_１、Ｃ_２、・・・、Ｃ_ｎ、Ｃ_ｎ＋１）を形成するように分割線（６、７、８）によってパターン加工される。半導体層（４）および後ろ側電極層（５）のパターン加工の際に、レーザ（１４）の出力が、前側電極層（３）を傷めることがないように小さくされる。好ましくは、前側電極層（３）のパターン加工および後ろ側電極層（５）のパターン加工に使用されるレーザ（１４）は、半導体層（４）のパターン加工にも使用される。 （もっと読む）

【課題】光起電モジュールを製造するための出発材料として使用するためのガラス板であり、高い曲げ強度および高い熱疲労抵抗を有し、高い費用効率で製造することができるガラス板を提供する。
【解決手段】化学蒸着によって導電性透明金属酸化物３でコートされたガラス板１を製作するために、ガラス板１への前記導電性透明金属酸化物３の化学蒸着が、ガラスの転移温度を５０℃を超えて下回らないコーティング温度で実行される。好ましくは、冷却速度は、５０Ｋ／分〜２００Ｋ／分である。また、好ましくは、冷却が、前記導電性透明金属酸化物３でコートされたガラス板１の両面への送風４によって実行される。 （もっと読む）

【課題】光起電モジュールの工業生産におけるコストを大幅に削減する。
【解決手段】光起電モジュールを製造するために、前側電極層３、半導体層４、および後ろ側電極層５が、直列接続されたセル（Ｃ_１、Ｃ_２、・・・、Ｃ_ｎ、Ｃ_ｎ＋１）を形成するように分割線８によってパターン加工される。前側電極層および半導体層のパターン加工が、赤外放射を発するレーザによって行われる。半導体層のパターン加工の際に、レーザの出力が、前側電極層を傷めることがないように小さくされる。 （もっと読む）

【課題】高品質の半透明太陽光電池モジュールを製造するための処理時間を実質的に短縮する。
【解決手段】半透明太陽光電池モジュールを製造するために、透明基体２が、透明前部電極層３、半導体層４および金属後部電極層５によってコーティングされ、次に、半導体層４および後部電極層５の部分領域が、除去される。この目的のために、剥離化合物１４が、インクジェットプリンタを用いて、半導体層４および後部電極層５が除去されることになっている領域で、前部電極層３に塗布される。その後で、半導体層４および後部電極層５は、剥離化合物１４の上に堆積される。次に、半導体層４および後部電極層５が、前部電極層３から剥離化合物１４と共に、除去され、透光性部分領域を形成する。 （もっと読む）

【課題】シリコン・マルチセル太陽電池の真正層の欠陥密度を大幅に低減する。
【解決手段】ｐ型層（ｐ１、ｐ２）、真正層（ｉ１、ｉ２）、およびリンをドープしてなるｎ型層（ｎ１、ｎ２）をそれぞれが有している少なくとも２つのサブセル（１、２）を備えているシリコン・マルチセル太陽電池であって、手前に位置するサブセル（１）のｎ型層（ｎ１）に接するｐ型層（ｐ２）が、少なくとも部分的にナノ結晶または微結晶であるように構成されている。 （もっと読む）