説明

株式会社ジー・イー・エスにより出願された特許

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【課題】ウェッジプリズムの往復移動を伴うことなく、レーザビームのワークに対する照射角度を可変とするビームローテータの実現。
【解決手段】角度ローテータ14の第3のウェッジプリズム30及び第4のウェッジプリズム38を透過したレーザビームL13は、第2の反射ミラー52a〜第4の反射ミラー52cを経由し、反転された状態で第4のウェッジプリズム38及び第3のウェッジプリズム30に再入射するため、両ウェッジプリズムの少なくとも一方を所定方向に回転させ、両者間の位相差を調整することにより、半径ローテータ12に出射されるレーザビームL14の光軸を所定幅で平行移動可能となる。 (もっと読む)


【課題】キャスト(流延)法によって製膜する方法に使用する製膜装置であって、平滑性と、寸法精度の高いシート類を効率的に成形することができる新しいタイプの製膜装置を提供する。
【解決手段】基台1上に、製膜用ステージ2を配設し、長手方向と直角の位置にスクレーパー3を備えた製膜装置からなり、前記製膜用ステージが、分離可能な平板と枠で構成され、該製膜用ステージの枠上に設置した押え板とともに、取外し可能な締め付け金具で、基台上に固定された構造を有し、分解組立が簡単で、形成するシート類の性状や形状、寸法に対応して製膜用ステージの交換が可能であり、かつ製膜スペース4には、着脱可能な製膜用平滑板6を装着できる構成を有する製膜装置。
【効果】平滑性、寸法精度の優れた高品質のシートを作製することが可能な製膜装置を提供することができる。 (もっと読む)


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