【課題】 使用済みスパッタ材を徐々に使い果たす再製スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 背面と、少なくとも１つのエロージョン面溝を備えるエロージョン面と、周縁とを有する使用済みスパッタ材を提供するステップと、
前記使用済みスパッタ材の背面に機械加工を施すための前処理を行うステップと、
前記使用済みスパッタ材と同様の成分を有する原料粉末を用い、該使用済みスパッタ材のエロージョン面、前記エロージョン面溝及び周縁を被覆し、順次に予備加圧及び焼結処理を行うステップと、を有し、これにより再製スパッタリングターゲットを獲得することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】形成された物理蒸着薄膜にマクロおよびミクロな偏析の生じない銅−ガリウム合金スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】７１原子％ないし７８原子％のＣｕと２２原子％ないし２９原子％のＧａからなり、その金属ミクロ組織中に２５％以下の化合物相を有する銅−ガリウム合金スパッタリングターゲットを、原料ターゲットに５００℃ないし８５０℃の温度範囲での少なくとも１回の熱を伴う機械的な処理、０．５ないし５時間の焼なまし処理、またはそれらを組み合わせた処理を施す工程。 （もっと読む）