説明

セメス カンパニー リミテッドにより出願された特許

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【課題】基板をより安定的に支持できるスピンヘッドを提供する。
【解決手段】本発明によるスピンヘッドは、支持板と、基板の側面を支持するように前記支持板に設置される複数のチャックピンと、前記支持板の中心から外側に向かう第1方向と垂直な第2方向に沿って前記チャックピンを移動させるチャックピン移動ユニットを包含することを特徴とする。
このような特徴によると、支持板の回転による遠心力がチャックピンに及ぶ影響を最小化して基板を安定的に支持できるスピンヘッドを提供できる。 (もっと読む)


【課題】ユーザーインターフェイスを利用して半導体製造設備を制御する制御システム及びその方法を提供する。
【解決手段】制御システムは、少なくとも1つの制御部がネットワークを通じて複数個の半導体製造設備と連結し、制御部は、遠隔制御用ホスト等の上位制御部と、クラスターツールコントローラ等を包含する下位制御部に具備し、制御部は、半導体製造設備を制御、モニタリング及び管理するためのユーザーインターフェイスアプリケーションを具備し、ユーザーインターフェイスアプリケーションは、アクセスした複数のメニューをヒストリー順に表示し、ナビゲーションメニューは、アクセスした複数のメニューに対応して複数個のバータイプに具備し、又ナビゲーションメニューは、修正されたデータを他のメニューに転換の時、自動的に格納し、アクセスした複数のメニューを速やかに選択でき、アクセスされたメニューでの修正されたデータの損失を防止する。 (もっと読む)


【課題】半導体基板を枚葉処理方式に支持する基板支持ユニットと、これを利用して基板を研磨、及び洗浄する基板研磨装置を提供する。
【解決手段】基板支持ユニットが研磨工程の時には、基板の下面を真空吸着し、洗浄後工程の時には、基板の下面洗浄のため基板を上向きに離隔された状態で支持することを特徴とする。
このような特徴によると、基板が枚葉方式の基板支持ユニットに支持された状態で基板の上面に対する研磨工程と、これに従う基板の上下面に対する洗浄後工程を順次的に進行できる基板支持ユニットと、これを利用する基板研磨装置及び方法を提供できる。 (もっと読む)


【課題】基板の処理不良を防止できる基板保持装置を提供する。
【解決手段】基板保持装置は、基板支持部材100及び回転調節部450を具備する。基板支持部材100は、基板がローディングされ、回転できる支持プレート111と、該支持プレート111に設置され、支持プレート111にローディングされた基板の側面で基板のエッジを支持して支持プレート111の上面から離隔させ、各々自転して支持されている前記基板を回転させる多数のチャッキングピン112とを具備する。回転調節部450は、支持プレート111の下に設置され、各チャッキングピン112の自転を調節する。チャッキングピン112は、工程の時基板を回転させて基板がチャッキングピンと接点される位置を変更させるため、チャッキングピンに当たった処理液が基板上に落ちる位置が継続変更される。 (もっと読む)


【課題】基板移送装置、これを有する基板処理装置及びこれの基板移送方法を提供する。
【解決手段】基板移送装置は、多数のアームユニット220、胴体210、及び多数のガイドユニット230を具備する。多数のアームユニット220は各々基板を積載し、水平方向に各々移動する。胴体210は多数のアームユニット220と結合し、各アームユニット220を水平方向に移動させる。ガイドユニット230は胴体210に固定結合し、各々アームユニット220の後方に位置し、アームユニット220と対応する。各ガイドユニット230は対応するアームユニット220が後方に移動する時、対応するアームユニット220に積載された基板の位置をガイドする。これによって、基板移送装置は移送過程で基板が離脱することを防止することができ、基板を安定的に移送することができるので、移送効率を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】移送部材の速度調節方法、これを利用した基板移送方法及び基板処理装置を提供する。
【解決手段】移送部材の移送アーム速度調節方法は次の通りである。移送アームは出発地点から第1地点まで移送アームを加速移動し、予め設定された基準速度に到逹する。以後、第2地点から目標地点まで移送アームを減速移動する。第1地点から第2地点までは複数の移動区間に区切られ、移送アームは移動区間別に減速運動、加速運動及び等速運動のうちのいずれか一つの運動形態に移動される。移送アームは現在の移動区間での運動形態とすぐ以前移動区間での運動形態が互いに異なるように移動する。これによって、移送アームに積載された基板に以前移動区間とは互いに異なる衝撃が加えられ、衝撃応答重畳によって基板の残留震動が相殺されるので、移送部材の移送効率が向上する。 (もっと読む)


【課題】半導体基板を処理する基板処理装置及び該基板の搬送方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は受け取り部材、搬送部材及び制御部を備える。搬送部材は受け取り部材に基板を載置又はピックアップする複数の搬送アームを備える。制御部は搬送アームの速度を調整して同時に駆動される搬送アームが目標地点に同時に到達するように制御する。これによって、搬送部材は複数の基板を受け取り部材に一度に載置又は取り出すことができるので、基板処理装置は搬送時間を短縮させ、生産性を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】基板のローディング/アンローディングの効率を向上させる基板処理装置及びその基板処理装置で基板を移送する方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置は、各移送アームの速度を調節する制御部710を具備し、同時駆動される各移送アームが各目標地点に同時に到達するように制御する。基板移送方法については、基板処理装置は、受納部材に対して基板を引出及び積載する移送部材200と、移送部材200を制御する制御部710とを含む。移送部材200は、基板が各々積載される多数の移送アームと、各移送アームを水平方向に移動させるアーム駆動部とを具備する。制御部710は、移送部材200の移動速度と位置を制御し、各移送アームの移動中の予想速度プロファイルを比較して、各移送アームの移動速度を制御する。 (もっと読む)


【課題】基板処理処置及びこれの基板移送方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は多数の工程チャンバ610、620、…、バッファ部300、及び移送部材500を含む。移送部材500は前記工程チャンバとバッファ部300との間で基板を移送し、工程が同時に終わる少なくとも2つの工程チャンバで処理完了した基板を集める。基板移送方法については、前記工程チャンバでは基板の処理が行われる。バッファ部300は前記工程チャンバに投入される基板と前記工程チャンバで処理完了した基板を収納する。移送部材500は、基板が置かれる水平移動可能な多数のピックアップハンド520を具備し、前記工程チャンバとバッファ部300との間で基板を移送し、処理した基板を一度にバッファ部300に移送するために、工程が同時に終わる少なくとも2つの工程チャンバで基板を集める。 (もっと読む)


【課題】
枚葉式基板処理装置及び方法が開示される。
【解決手段】
本発明による枚葉式基板処理装置は、基板を化学的および機械的方法で研磨する研磨ユニットと、基板を洗浄する洗浄ユニットと、が一つの処理室内に備えられることを特徴とする。かかる特徴によれば、半導体基板の研磨工程と洗浄工程と、を一つの処理室内で枚葉方式で行える枚葉式基板処理装置及び方法を提供することができる。 (もっと読む)


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