桂商事株式会社により出願された特許
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浮游拡散型乾燥装置
【課題】
被処理物へのマイクロ波の照射効率が高く、被処理物をムラ無く均一に短時間に乾燥することができる浮遊拡散型乾燥方法を提供する。
【解決手段】水平方向に配置されている円筒状の処理容器(1)と、該処理容器(1)内に回転駆動可能に設けられている水平回転軸(15)と、該水平回転軸(15)に取り付けられている複数枚のフラット羽根(18’、18”)と、処理容器(1)内にマイクロ波を照射するマイクロ波発信器(40)とから乾燥装置を構成する。被処理物を処理容器(1)内に入れる。フラット羽根(18’、18”)を所定の周速度で駆動して被処理物を所定角度だけ掬い上げ、落下させて浮遊拡散状態にし、マイクロ波を処理容器(1)の上方位置から照射する。
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