説明

シーゲイト テクノロジー リミティド ライアビリティー カンパニーにより出願された特許

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【課題】複数のアノードを含むイオンビーム蒸着用のイオン源に関する。イオン源は、原材料の複数のゾーンを蒸着し、複数のゾーンのうちの少なくとも2つのゾーンの厚みを異なるようにする。
【解決手段】イオンビーム蒸着で炭素を蒸着する場合、プロセス室の数は制限されるので、2つまたは3つ以上のイオン源を利用することは、スペースの理由で不可能なこと、または費用の理由で現実的でないことが多いが、イオン源として、複数の同心のアノードを含み、異なる電圧が複数のアノードに印加することで、少くとも2つのゾーンの厚みを異ならせることができる。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体用の耐久性、下地層への潤滑膜の固着、及び耐摩耗性に優れた潤滑膜を提供すること。
【解決手段】基板上に磁気記録層を形成すること、該磁気記録層上に保護オーバーコート層を形成すること、該保護オーバーコート層の表面をパーフルオロシクロアルカン及び酸素を含む雰囲気に暴露すること、及び該パーフルオロシクロアルカンをプラズマ強化化学気相成長法を用いて重合して、該保護オーバーコート層上にパーフルオロポリエーテル含有層を堆積すること、を含む磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク上の保護層及び減摩層の改良は磁気ヘッドと磁気ディスクの間の接触によりもたらされる摩擦音及び損傷を最小にする。
【解決手段】組成物は低断面潤滑剤および一以上のシクロホスファゼン環を含む化合物の混合物を含む。低断面潤滑剤はペルフルオロポリエーテル主鎖、主鎖の各末端に少なくとも1つの官能基ならびに末端間の主鎖領域に位置する少なくとも1つの官能基を含む。また装置は磁気ディスク及び磁気ディスク上組成物を含む。 (もっと読む)


【課題】スパッタリング装置、およびスパッタリング装置を介してターゲットから基板上へ材料をスパッタリングする方法に関し、ターゲットの利用性を高くし、基板上へのデポジットに利用される領域のより均一な分布を実現することを目的とする。
【解決手段】スパッタリング装置1が、スパッタリング中にグロー放電プラズマが形成されるようなスパッタリングターゲット2を備える。スパッタリングターゲットは、スパッタリング中にグロー放電プラズマが形成される側として規定される平面6の前部と、反対の側として規定される平面の後部とを有する平面内に配置される。スパッタリング装置は、電気的にフローティング状態の中心磁極18および外側磁極20を有する磁気回路を備える。中心磁極および外側磁極の両方の少なくとも一部が、スパッタリングターゲットにより規定される平面の前部に配置される。 (もっと読む)


【課題】均一に表面全体をカバーする耐腐食性キャップ層の必要性が存在する。
【解決手段】基板;基板上のグラニュラー磁性層;グラニュラー磁性層上のキャップ層;及びキャップ層上の、カーボン及びシリコンのうち少なくとも1種を含むオーバーコートを含み、キャップ層が2600K未満のガラス転移温度、及び2.6J/m2未満の表面エネルギーを有する材料を含む、磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスクの潤滑剤に好適な化合物を提供すること。
【解決手段】ペルフルオロポリエーテル鎖をもった主鎖を含む化合物。この化合物はまた、主鎖に結合しているかもしくはそれに組み込まれている1つ以上のシクロホスファゼン環を有する。この化合物はさらに、主鎖に結合しているか、1つ以上のシクロホスファゼン環に結合しているか、さもなければそれらの結合の組み合わせをもった少なくとも2つの官能基を含む。 (もっと読む)


【課題】気相潤滑方法用の装置を提供すること。
【解決手段】チャンバー、配列した開口部を有するディフューザープレート、ディフューザープレートの開口部とほぼ同じパターンの開口部を有するシャッタープレート、チャンバー内で被気相コーティング目的物を保持するホルダー、及びシャッタープレートを動かしてシャッタープレートの配列した開口部をディフューザープレートの配列した開口部に合わせるか、またはシャッタープレートでディフューザープレートの配列した開口部を少なくとも部分的に塞ぐアクチュエータを含む気相潤滑用装置。 (もっと読む)


【課題】1バッチの均一な形状のガラスシート目的物の形成方法を開示する。
【解決手段】積層されたガラスシートがフレーム16に置かれ、そして冷却剤6に浸される。穴が積層体14にドリル加工して開けられる。ドリル加工による上記穴の芯材及びいずれの破片も、冷却剤6から取り除かれ、そしてフィルターにポンプで送られる。ピンが上記穴に挿入され、底部に取り付けられる。ピンの頭部、またはワッシャーが積層されたガラスを上記穴の底部に固定する。次いで、目的物が上記ピンによってフレーム16の底部に保持されている間に、外形が、穴の周囲のガラスの積層体14に切り出される。再び、いずれの破片も冷却剤6から取り除かれる。均一な形状の目的物がフレーム16から外されて、そして分離される。ガラスシート目的物は好ましくは磁気または光磁気(MO)データ/情報格納検索媒体用の基板として使用できる。 (もっと読む)


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