【課題】矩形パターン形状の上面部の形状を任意の曲線形状に変えることができるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】レチクルＲ上のパターン１０１に照明光を照射し、投影光学系１００を介して１０μｍ厚以上のフォトレジスト上に投影像を形成し、３次元形状のレジストパターンを作成するレジストパターン作成方法において、レジストパターンを形成する工程中に、フォーカス位置で露光した後に、少なくとも１回、投影光学系の瞳位置の開口１０２の大きさ又はフォーカス位置を所定量変更して分割露光を行うレジストパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】裏面マークとレチクルマークとのアライメントにより、レチクルと感光性基板との位置合わせを行い、投影露光することが可能な露光方法を提供する。
【解決手段】感光性基板の裏面に設けられた裏面マークの位置を計測することで、レチクルＲ上のパターンを、投影光学系１７を介して基板上に投影露光する装置であって、レチクル上に設けられたレチクルマークＲＭと共役な位置に第１の基準マークＦＭ１を設けると共に、それらを計測する第１の計測センサが配置され、更に裏面マークと共役な位置に第２の基準マークＦＭ２を設けると共に、それらを計測する第２の計測センサが配置されており、第１の基準マーク及び、第２の基準マークが基板ステージ上の感光性基板の厚さに対応する距離に配置されている投影露光装置を提供する。 （もっと読む）