【課題】本発明は、ナノパウダーを合成する装置を提供する。
【解決手段】ガス雰囲気と、ペアの削磨電極とを有する反応チャンバであって、該ペアの電極のうちの少なくとも１つはナノパウダーを生成するための前駆物質である、反応チャンバと、該ペアの削磨電極に電気接続された高電力パルス電源と、該ペアの削磨電極に接続されたオートヒューザデバイスであって、該オートヒューザデバイスは、オートヒューズ電源と、トリガ回路と、該削磨電極のうちの１つに電気接続された第１の一次電極、該オートヒューズ電源に電気接続された第２の一次電極および該トリガ回路に電気接続された二次電極を有するトリガードスパークギャップデバイスとを含む、オートヒューザデバイスとを備える、装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ナノパウダーを合成する装置を提供する。
【解決手段】ガス雰囲気と、ペアの削磨電極とを有する反応チャンバであって、該ペアの電極のうちの少なくとも１つはナノパウダーを生成するための前駆物質である、反応チャンバと、該ペアの削磨電極に電気接続された高電力パルス電源と、該ペアの削磨電極に接続されたオートヒューザデバイスであって、該オートヒューザデバイスは、オートヒューズ電源と、トリガ回路と、該削磨電極のうちの１つに電気接続された第１の一次電極、該オートヒューズ電源に電気接続された第２の一次電極および該トリガ回路に電気接続された二次電極を有するトリガードスパークギャップデバイスとを含む、オートヒューザデバイスとを備える、装置。 （もっと読む）

基板上に導電性薄膜を作製する方法を開示する。まず、還元性金属化合物および還元剤を液体中に分散させる。次いで、この分散液を基板上に薄膜として堆積させる。続いて、この薄膜を基板とともにパルス電磁放射線に曝露し、還元性金属化合物と還元剤とを化学的に反応させて、薄膜を導電性にする。本発明は、薄膜において酸化還元反応を行うための活性化エネルギーを強力パルス光を用いて提供する方法である。このレドックス反応は、有機化合物による金属酸化物の還元であってもよく、低温基板上で行ってもよい。
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低温基板上の薄膜を反応性雰囲気中で反応させる方法が開示される。薄膜は、還元性の金属酸化物を含み、反応性雰囲気は、水素またはメタンのような還元性ガスを含む。低温基板は、ポリマー、プラスチックまたは紙であり得る。金属酸化物を金属に還元し、適用可能であれば上記金属を焼結するために高強度ストロボシステムからの複数の光パルスが用いられる。本発明の好ましい実施形態に従って、ガス雰囲気が初めに提供される。次に、低温基板の上部に位置する薄膜の層がガス雰囲気中を通って運ばれる。薄膜の層がガス雰囲気中を移動するときに、上記薄膜の層が複数のパルス電磁放射線に曝露されて、薄膜の層がガス雰囲気と化学的に反応することを可能にする。
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高速で低温基板上の薄膜を熱的に処理するための硬化装置が開示される。硬化装置は、ストローブヘッドと、ストローブ制御モジュールと、コンベヤー制御モジュールとを含む。ストローブ制御モジュールは、ストローブヘッド上のフラッシュランプによって生成される一組のパルスのパワー、持続期間および繰返しレートを制御する。速度情報に従って、コンベヤー制御モジュールは、ストローブ制御モジュールと共に、一組のパルスの繰返しレートと、基板がストローブヘッドの下で動かされる速度との間にリアルタイムの同期を提供する。
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