本発明は、少なくとも１つのターゲットと、上記少なくとも１つのターゲットの向い側に配置された基板と、レーザビームを生成するレーザとを備え、レーザビームを上記ターゲット上に向けて照射して、ターゲット材料のプラズマプルームを生成し上記基板上に堆積するようにしたレーザ堆積装置であって、ベースフレームと、上記ベースフレーム内に配置され少なくとも２つのターゲットホルダーを有する回転可能なターゲットフレームと、上記ベースフレームに取り付けられた少なくとも１つの冷却装置とをさらに備え、上記冷却装置を、上記ターゲットフレームと熱交換接触をさせるように上記ターゲットフレームに対して移動可能としたことを特徴とするレーザ堆積装置に関する。
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本発明は、パルスレーザ堆積のための装置に関し、この装置は、−基板が載せられる基板マウントと、−この基板マウントに対向し,ターゲット材料が載せられるターゲットマウントと、−ターゲット材料にレーザ光を照射するレーザ装置と、−基板の上方に配置されるシャドーマスクを備え、シャドーマスクは、移動可能なディスクに載せられ、この移動可能なディスクは、上記基板マウントに対して接離するように軸方向に移動できる。さらに、本発明は、この装置を操作する方法に関する。
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本発明は、面上に像を投影するための装置であって、光線を生成するための光源と、上記光線の進路に配置されたマスクと、上記マスクの上記像の焦点を面上に合わせるために、上記マスクの後に配置され、上記面に平行ではないレンズとを備え、上記マスクのエッジに沿ったほぼ全ての位置の各々における上記レンズに対する距離ｖ、および、上記マスクの上記像の上記エッジにおける上記レンズに対する対応する位置の距離ｂは、式１／ｖ＋１／ｂ＝１／ｆに略対応し、ｆが上記レンズの焦点の長さであることを特徴とする装置に関する。また、本発明は、面上の像を移動するための装置に関する。
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本発明は、サンプル（２）の表面にターゲット（３）の材料を蒸着する方法に関するものであり、ターゲットの表面にレーザービーム又は電子ビーム（７）を照射して、ターゲット材料粒子のプルーム（９）を生成させるステップと、ターゲット材料粒子がサンプルの表面に蒸着されるように、プルーム近傍にサンプル（２）を位置させるステップと、粒子が蒸着されるサンプルの表面に対して垂直な回転軸（１）回りに、サンプルを回転させるステップと、プルームが前記回転軸に対して半径方向に移動するように、ターゲットの表面に沿ってレーザービームを移動させるステップと、可変周波数で、レーザービームのパルスを発するステップと、を有している。
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