説明

エコール ナショナル スーペリウール ド テクニック アヴァンセにより出願された特許

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本発明は、移動面(10)上に合焦する、第1の波長(λ)の第1の光ビームを放射する一次光源(F)から二次源を発生させる装置に関し、前記第1のビームは、二次ビーム(F)を発生させるために本装置と相互作用し、本装置はさらに、前記移動面上の、前記二次源の放射点の向きおよび位置を測定するために前記移動面の向きおよび位置を制御する光学素子を備えることを特徴とし、干渉計型測定によって移動面(10)の向きおよび位置を制御する上記光学素子は、
− 2つの分岐に分割される制御レーザビーム(11)であって、一方の分岐は、固定された基準ビームであり、他方の分岐は、移動面から反射される移動解析ビーム(12)である、制御レーザビーム(11)と、
− 前記基準ビームと前記解析ビームとを干渉させて干渉縞を発生させる手段と、
− 前記移動面の向きおよび位置に関する情報を搬送する干渉縞を撮像するカメラ型手段(16)と、
− 前記干渉画像を解析する手段(17)と、
− 前記情報搬送信号の解析に基づいて前記移動面の向きおよび位置を制御するフィードバックループを発生させる手段(18)と、を含むことを特徴とする。
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