説明

相模化成工業株式会社により出願された特許

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【課題】降圧薬として有用な融点120〜124℃を有する[2−アミノ−1,4−ジヒドロ−6−メチル−4−(3−ニトロフェニル)―3,5−ピリジンジカルボン酸 3−(1−ジフェニルメチルアゼチジン−3−イル)エステル 5−イソプロピルエステル]の製造法を提供する。
【解決手段】2−(3−ニトロベンジリデン)アセト酢酸イソプロピルエステルとアミジノ酢酸(1−ジフェニルメチルアゼチジン−3−イル)エステル酢酸塩とを反応させてジヒドロピリジン誘導体を製造する方法において、反応終了後、得られた粗ジヒドロピリジン誘導体を溶媒中で再結晶し、ジヒドロピリジン誘導体・溶媒付加体を得ることを特徴とする、ジヒドロピリジン誘導体の製造法、および、ジヒドロピリジン誘導体・溶媒付加体から溶媒を除去することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】医薬品の製造中間体として有用なN,N−ジメチルカルバモイルメチル 4‐ヒドロキシフェニルアセテートの新規製造法を提供すること。
【解決手段】2‐ブロモ‐N,N‐ジメチルアセトアミド、もしくは2‐クロロ‐N,N‐ジメチルアセトアミドと4‐ヒドロキシフェニル酢酸とを塩基の存在下、水、もしくは水と相溶性のある有機溶媒との混合溶媒中で反応することを特徴とする、N,N−ジメチルカルバモイルメチル 4‐ヒドロキシフェニルアセテートの製造法。本発明の方法は、高反応率で進行し、また反応後の後処理も簡便である。 (もっと読む)


【課題】 フタロイル基保護アムロジピンから、高純度のアムロジピンベンゼンスルホン酸塩を、高収率で製造する方法を提供することを課題とする。
【構成】 1)溶媒中、フタロイル基保護アムロジピンとヒドラジン水和物又はメチルアミンを反応して、アムロジピン塩基を含む反応液を得る第1工程、2)該反応液を水洗する第2工程、3)水洗した反応液を乾燥する第3工程、4)乾燥した反応液に、ベンゼンスルホン酸一水和物を加え、アムロジピン塩基と反応して、アムロジピンベンゼンスルホン酸塩を含む反応液を得る第4工程、及び5)つづいて、該反応液を冷却してアムロジピンベンゼンスルホン酸塩を析出させ、ろ取、乾燥する第5工程からなる、アムロジピンベンゼンスルホン酸塩の製造方法。 (もっと読む)


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