【課題】効率的にぺロブスカイト構造酸化物薄膜の結晶方位制御ができ、容易に高品位の正方晶系ぺロブスカイト構造酸化物薄膜を提供し得る方法を提供する。
【解決手段】蛍石型の結晶構造を有する金属フッ化物を主成分とする基板の（１１１）面上または（１００）面上に、正方晶系の結晶構造を有し、かつ（００１）、（１０１）または（１１１）の単一結晶配向を有するぺロブスカイト構造酸化物薄膜を作製する（ただし、（１００）面上に、（００１）の単一結晶配向を有する場合を除く）。蛍石型の結晶構造を有する金属フッ化物を主成分とする基板は、金属サイトまたはＦサイトの一部を他の元素で置換して格子定数を制御されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】高い耐湿性、低スプラッシュ、且つ継足し利用可能な光学薄膜形成用の組成物を提供する。
【解決手段】組成式Ｌａ_wＴｉ_xＡｌ_yＯ_z（ｗ＋ｘ＋ｙ＝１００とした時に、ｗ＝１９〜５４、ｘ＋ｙ＝８１〜４６（ｘ：ｙ＝１：９９〜９９：１）、１．５ｗ＋１．５ｘ＋１．５ｙ≦ｚ≦１．５ｗ＋２ｘ＋１．５ｙ）で表わされる薄膜形成用組成物。 （もっと読む）

【課題】高屈折率を有する光吸収率の小さい光学薄膜用材料であり、大電流の電子ビームの照射を行っても材料の割れやビーム照射面の陥没などの起こらない真空蒸着用材料として用いることのできる金属酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】金属成分としてジルコニウムとチタニウムとニオブを含み、化学量論的にＺｒ_ｗＴｉ_ｘＮｂ_ｙＯ_ｚの組成で表され、かつ酸素欠損を有する複合酸化物であり、該ｗ、ｘ、ｙ、ｚは、３．８≦ｗ≦７．９、０．１６≦ｘ≦５．６、０．０１≦ｙ≦１．８３、１３．６≦ｚ＜２０．１５の範囲にあり、および、該酸素欠損の量は、完全酸化に対して０．０８９ｍｏｌ％以上１７．０８４ｍｏｌ％以下の範囲にあることを特徴とする光学薄膜の形成材料。 （もっと読む）

【課題】高密度であって、焼結工程中に組成の変動が起こらず、成膜中に針立ちの発生やターゲットの変形およびひび割れ等の損傷が起こらず、高透明で低抵抗な透明導電膜を高速成膜により得ることが可能な蒸着用あるいはイオンプレーティング用材料を提供する。
【解決手段】本発明は、酸化インジウム(In₂O₃)と酸化タングステン(WO₃)と酸化マグネシウム(MgO)の化合物又は混合物であることを特徴とする光学薄膜用蒸着材料である。また、本発明は、酸化インジウム(In₂O₃)と酸化タングステン(WO₃)と酸化マグネシウム(MgO)の化合物又は混合物であって、高温酸素雰囲気あるいは高温大気雰囲気中において焼結させた焼結体であることを特徴とする光学薄膜用蒸着材料である。 （もっと読む）