【課題】高い反射率を保持しながら耐熱性に優れた薄膜を形成できる薄膜形成用材料。
【解決手段】０．０１〜３５ａｔ％（原子％）のＣを含有するＡｇを基とした組成で構成されている薄膜形成用材料であり、更に、Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅの群、Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ａｕの群、並びにＢ，Ｎ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｍｇ,Ｔｅ，Ｂｉの群から選ばれた少なくとも一種を０．０１〜１０ａｔ％を含有してもよい薄膜形成用材料。 （もっと読む）

【課題】 ギヤ部材の製造の際に、焼入れなどの熱処理をすることなくギヤ部材の硬度を上げることができるギヤ部材の製造方法を得る。
【解決手段】 両端開口の円筒部２の一端部にフランジ部３を有し、フランジ部３には凹凸形状４を有し、外周部にはギヤ部５を有し、円筒部２には他端側から中間部にかけてスプライン部８を有する金属製のギヤ部材１の製造方法において、フランジ部３及びスプライン部８の成形に関わる加工に冷間鍛造による圧縮加工を用い（図３（ｃ），（ｄ））、ギヤ部５の成形には、冷間打抜き加工を用いる（図３（ｅ），（ｆ））ようにした。 （もっと読む）

【課題】 一端側に開口した穴と他端側に設けられたフランジとを有する棒状部材の製造の際に、焼入れをしなくても棒状部材の硬度を均一に近づけることができるようにする。
【解決手段】 一端側に開口した穴２と他端側に設けられたフランジ３とを有する棒状部材１（図２（ｄ））の製造方法において、棒状部材１の軸部１ａの径よりも大径であってフランジ３を１回の冷間鍛造加工で成形可能な径を有する素材１１（図２（ａ））に焼鈍処理を施した後、この素材１に冷間鍛造加工を施して素材１１の径と略同径の大径部１２と軸部１ａの径と略同径の小径部１３とを形成して、中間材１５（図２（ｂ））を得て、中間材１５の大径部１２側にフランジ３を冷間鍛造加工によって成形し（図２（ｃ））、小径部１３側に第１の穴２を冷間鍛造によって成形するようにした（図２（ｄ））。 （もっと読む）

【課題】 所望の組成を有する多成分系のランタニド系複合酸化物薄膜を安定して得る。
【解決手段】 ランタニド系金属及び他の金属を含む薄膜製造用ＣＶＤ原料であり、Ｌｎ（β−ｄｉｋ）₃・Ｌ・・・（Ｉ）で示される化合物（但し、Ｌｎはランタニド系金属原子、β−ｄｉｋはジピバロイルメタン（ＤＰＭ）、ジイソブチリルメタン、イソブチリルピバロイルメタン、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−オクタンジオン（ＴＭＯＤ）、アセチルアセトン、６−エチル−２，２−ジメチル−３，５−オクタンジオン、５−メチル−２，４−ヘキサンジオン及び５，５−ジメチル−２，４−ヘキサンジオン等のβ−ジケトン類、Ｌは１，１０−フェナントロリン、２，２'−ビピリジル及びそれらの誘導体等の中性配位子。）並びに他の金属を含む有機金属化合物を溶媒に溶解して得られ、式（Ｉ）の化合物を熱重量天秤分析（ＴＧ）にかけて得られるΔＴＧグラフは１つの気化点ピークのみを有するＣＶＤ原料及びこれを用いた薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 長時間連続運転しても安定で良好な気化特性を示し、均一組成を再現性良く製造できるＣＶＤ原料。
【解決手段】 有機金属化合物を１，２−エポキシシクロヘキサンを含む溶媒に溶解して得られる薄膜用ＣＶＤ原料であり、好ましくは有機金属化合物が金属のジピバロイルメタナト、ペンタフルオロプロパノイルピバロイルメタナト、ジイソブチリルメタナト、イソブチリルピバロイルメタナト、アセチルアセトナト、ヘキサフルオロアセチルアセトナト、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−オクタンジオナト、ジオラート、ジアルキルアミド錯体、アルコキシド、シクロペンタジエニル又はそれらの誘導体の少なくとも１種であり、金属がＢｉ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｌａ、Ｎｂ、Ｐｂ、Ｎｉ、Ｔａ、Ｎｄ及びＺｒの群から選ばれた少なくとも一種である薄膜用ＣＶＤ原料、ならびにそれを用いて溶液ＣＶＤ法により成膜された薄膜。 （もっと読む）