【課題】サイズの異なるガラス材料製のハードディスクを効率よく洗浄できるようにしたガラスハードディスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】ローダーカセット（２）から送り出されたハードディスク（１）を第１ウォーターベアリング（６）で搬送する。第１検出間隙（８）を設けて第２ウォーターベアリング（７）を連接し、ハードディスク（１）をスクラブ洗浄部へ送る。このスクラブ洗浄部で、ハードディスク（１）はテーパー付のドライブローラ（１０）の傾斜面に当って回転される。スクラブ洗浄後のハードディスクは第３ウォーターベアリング（２４）及び第２検出間隙（２７）をあけて設けた第４ウォーターベアリング（２６）でアンローダーカセット（３１）に収納される。上記第１検出間隙（８）及び第２検出間隙（２７）には、ハードディスクを横方向から検出するセンサー（９）、（２９）がある。 （もっと読む）

【課題】大口径のウエーハを確実に乾燥できるようにする。
【解決手段】温純水がオーバーフロー状態に流入、流出しているディップ槽（１）の上方に、乾燥チャンバー（２）を設ける。この乾燥チャンバー（２）内には上記ディップ槽（１）から引き上げられた直後のウエーハを約１５０°〜４００℃に加熱するヒーター（７）と、該チャンバー内をＮ2雰囲気にするようＮ2ガス噴出ノズル（９）が設けられている。また、ディップ槽（１）の直上には、オーバーフロー面から発生する水蒸気が上記乾燥チャンバー（２）内に上昇しないよう水蒸気凝縮手段が設けられている。オーバーフロー面から出たウエーハは、ヒーター（７）により高温に加熱され、ウエーハ面の水分が表面張力により分離し、パーティクルの付着していない状態に乾燥される。 （もっと読む）

【課題】 高品位の酸化膜を形成することができ、かつ、管理が容易な酸化膜形成装置及び酸化膜形成方法を提供する。
【解決手段】 耐圧容器１３の外部に設けられた気化器２１が水蒸気を生成し、この水蒸気は加温及び加圧された状態の耐圧容器１３内に供給される。したがって、シリコンウエハＡの周囲の雰囲気は酸化膜形成プロセスの全工程を通じ一定し、シリコンウエハＡに形成される酸化膜は高品位なものとなる。また、使用するのが水であり、使用量の管理及び安全管理が容易である。 （もっと読む）

【課題】ウエーハの両面洗浄装置において、口径や形状の異なるウエーハを簡単な切替操作で洗浄できるようにする。
【解決手段】ウエーハ（１）を挟んで洗浄しながら側方に付勢するよう上ブラシ（１２）と下ブラシ（１３）を逆方向に回転する。この上下ブラシの横に旋回台（９）を旋回可能に設ける
。旋回台にはウエーハの側面の一部に接触してウエーハを回転させるドライブローラがあり、このドライブローラで形作る円弧状の曲面をウエーハに応じて変えた複数のドライブユニット（３）、（４）、（５）、（６）、（７）と角形基板を載置し移動させる角形基板ユニット（８）がある。上記上下ブラシに送り込まれたウエーハに対応するドライブユニットがブラシに対向するように上記旋回台を旋回してブラシ洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 研削、ラップ、ポリッシング等の研磨加工後のウエーハを効率よく洗浄する。
【解決手段】 洗浄装置本体（３）は、研磨加工後のウエーハ（１）を搬送するスライダ部（４）と、ウエーハを水中に浸漬保持するよう昇降可能に設けたストッカ部（５）と、該ストッカ部（５）から取り出したウエーハを洗浄するスクラブ洗浄部（６）を具備する。上記スライダ部は、上記ストッカ部（５）のウエーハ保持棚間に挿入することができ、研磨加工後のウエーハは、すべてストッカ部（５）に搬入されて水中に浸漬される。その後、上記ストッカ部（５）を上昇して上記スライダ部をストッカ部に挿入し、上段のウエーハから順次、上記スクラブ洗浄部へ送り出して洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 薄く加工され、歪のあるウエーハを平滑状態で支持基板に貼り合わせる。
【解決手段】 ウエーハ（１）の回路パターン面に接着剤を厚く塗布する。このウエーハ（１）の歪がなくなる程度にウエーハの裏面略全面を中央チャック部（９）と外周チャック部（１０）を有する保持チャック（８）で吸着保持する。支持基板（２）は、貼り合せステージ（３２）上に載置され、接着剤中の溶剤を充分揮発できるように加熱される。上記保持チャック（８）を反転し、ウエーハ（１）を支持基板（２）に接着する。その後、直ちに上記貼り合せステージ（３２）は冷却位置に移動され、ウエーハ（１）は平滑状態で支持基板（２）に圧着され、同時に接着剤は冷却される。 （もっと読む）