【課題】真空槽内での位置を移動できる基板縦方向揺動装置と、真空槽内で基板を縦方向及び横方向に往復移動できる基板ステージ装置及びイオン注入装置を提供する。
【解決手段】
基板縦方向揺動装置は真空槽１１内に配置され、回転軸３７を中心に上下に回動する腕部３３ａ、３３ｂと、本体３１に鉛直に固定された縦レール３２ａ、３２ｂと、縦レール３２ａ、３２ｂに沿って上下に移動する縦方向移動部材３４ａ、３４ｂと、腕部３３ａ、３３ｂの回動動作の鉛直方向の成分を抽出し、縦方向移動部材３４ａ、３４ｂを抽出した移動量移動させる縦方向抽出部材とを有し、基板保持台２１は一方の縦方向移動部材３４ａに設けられ、他方の縦方向移動部材３４ｂには重り２５が設けられる。基板ステージ装置３０は、基板縦方向揺動装置と、基板縦方向揺動装置を真空槽１１内で左右に移動させる基板横方向揺動装置とを有する。 （もっと読む）

【課題】 ステージの高さを抑え、かつ安定した位置決精度を保証できるようにする。
【解決手段】 互いに対向するガイド溝１１を持つ一対のガイドレール１０をＸ軸方向に設ける。一対のガイドレール１０の間に平板状のＸ軸スライダ２０を設けて、ガイド溝１１に沿ってＸ軸方向の移動が許容され、Ｙ軸方向の動きが規制されるようにする。Ｘ軸スライダ２０を囲むように略コ字型のＹ軸スライダ３０を装着する。Ｘ軸スライダ２０に対してＸ軸方向の動きが規制されてＸ軸スライダ２０がＸ軸方向に移動するとそれに伴ってＸ軸方向に移動し、Ｘ軸スライダ２０に対してＹ軸方向の動きが許容されて、Ｘ軸スライダ２０に対してＹ軸方向に移動できるようにする。一対のガイドレールのガイド溝１１とＸ軸スライダ２０との間、及びＸ軸スライダ２０とＹ軸スライダ３０との間にガスを供給して、そのガス圧によってＸ軸スライダ２０及びＹ軸スライダ３０を支持する静圧ガス軸受４０、５０をそれぞれ設ける。 （もっと読む）