説明

株式会社アルバックにより出願された特許

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【課題】照射されるイオンに金属不純物の混入することのない荷電粒子引出照射機構を提供する。
【解決手段】誘導結合プラズマ型のプラズマ発生手段により、プラズマ生成室200内に誘導結合プラズマを励起し、被処理体120にイオンでプラズマ処理を施す荷電粒子引出照射機構1であって、誘導結合プラズマから被処理体に向けて、誘導結合プラズマを引出し制御する複数の多孔電極10、20、30、40が、相互に離隔して平行に配置されており、かつ、全ての多孔電極がカーボン材料で構成されている。 (もっと読む)


【課題】蒸発材料の、蒸着対象物に対向する対向面内で、蒸発流密度の分布を均一にすることができる真空蒸着装置、これに用いられる電子銃及びその蒸着方法を提供すること。
【解決手段】真空蒸着装置100では、メインコントローラ14及び/または電子銃ドライバ59により、電子ビームBが、蒸発材料10の上面10aの外形にしたがって揺動するように、揺動コイル62が制御される。これにより、電子ビームが、その上面10a全体に均一に入射される。したがって、蒸発材料10の上面10aからの蒸発流分布(蒸発流密度)を均一にすることができる。その結果、成膜レートの安定化を図ることができ、基板Wに形成される蒸着膜の膜厚分布を均一にすることができる。 (もっと読む)


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