【課題】プロセスプラント内の一つの機能エリアで生成もしくは収集されるステータス情報、重要度情報および修正措置に関する情報を、他の機能領域でも利用できるようにする。
【解決手段】プロセスプラント１０内のエンティティを監視するための方法およびシステムは、プロセスプラント内のエンティティのステータスに関するステータスデータを収集することと、プロセスプラント内のエンティティの重要度に関す重篤度データを収集することと、上記のエンティティのステータスデータおよび重篤度データを用いてプロセスプラント内の機能を実行する。 （もっと読む）

【課題】フィールド装置が設置される向きによって決定される適切な向きにアンテナを簡単に回転させる取り付け具を提供する。
【解決手段】フィールド装置１００は、外面１０３と、主空洞１１７を囲む内面１０５と、主空洞１１７から外面１０３まで延びる開口１１４とを有するハウジングを備える。電気部品２８が、ハウジングの主空洞１１７内に配置される。アンテナ１８は、電気部品２８と電気的に連通する。さらにフィールド装置１００は、ハウジング１０２に取り付けられた回転式の取り付け具１１０を備える。取り付け具１１０は、該取り付け具の第１の端部１１８から第２の端部１２２まで延びるチャネル１２０を有する。ケーブル１８２は電気部品２８およびアンテナ１８に電気的に接続され、チャネル１２０の少なくとも一部分を通って延びる。 （もっと読む）

【課題】太陽光発電に依存しない豊富で再生可能な電力源を使用して作動することができるワイヤレスプロセス装置を提供する。
【解決手段】プロセス制御・モニタリングシステム１０を構成するフィールド装置３４は、、制御装置３５及び制御装置３５に結合されているワイヤレス通信３２を含む。フィールド装置３４のための電気を発生する電源３８が提供され、電源３８は、フィールド装置３４内に配置することもできるし、フィールド装置３４に結合された別個のユニットであることもできる。 （もっと読む）

ワイヤレスフィールドデバイスネットワーク間のワイヤレス通信に対する障壁を乗り越えるための装置は、障壁をまたぐ有線リンクによって接続された、ローカルで給電される１対のワイヤレスデバイスを備える。ローカルで給電されるワイヤレスデバイスのうちの少なくとも１つは、相互接続されることが意図されるワイヤレスネットワークのそれぞれとワイヤレス通信する。ワイヤレスデバイスは、ワイヤレス送受信機およびアンテナを備える。あるワイヤレスフィールドデバイスネットワークからの、別のワイヤレスフィールドデバイスネットワークのメンバノードにアドレス指定されたメッセージは、障壁の一方の側のワイヤレスデバイスによって受信され、他方のワイヤレスフィールドデバイスネットワークのメンバノードにルーティングされるように、有線リンクを介して障壁の他方の側の別のワイヤレスデバイスに送信される。 （もっと読む）

工業用プロセスのプロセス変数の測定に用いるためのプロセス変数トランスミッタ（１２）は、ディスプレイ（５０）を含む。トランスミッタ（１２）は、ハウジング（２０）と、工業用プロセスのプロセス変数を検知するように構成されたプロセス変数センサ（４０）と、トランスミッタ出力を提供するように構成されたプロセス変数センサ（４０）に結合されたトランスミッタ回路（４２）と、トランスミッタ回路に結合されるように構成された、ハウジング（２０）内の接続部材（４４）とを含む。接続部材上（４４）の第１の回転可能なコネクタ（６２）は、複数の第１のコンダクタを含む。ディスプレイモジュール（２２）は、複数の第２のコンダクタを有する第２の回転可能なコネクタ（６０）を含む。複数の第１及び第２のコンダクタがともに電気接続されるように構成される。
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モジュール式の本質安全バッテリモジュールアセンブリ（１２）が提供される。アセンブリは、フィールド装置（１０）の導管（２０）に装着するように構成されたリジッド導管アダプタ（２２）を含む。内部を有するハウジング（６６）は、リジッド導管アダプタ（２２）に動作可能に結合され、リジッド導管アダプタ（２２）に物理的に支持される。少なくとも一つの非充電式バッテリ（６４，１６４）は、ハウジング（６６）内に配置される。本質安全な回路（５００）は、少なくとも一つの非充電式バッテリ（６４，１６４）に結合され、リジッド導管アダプタ（２２）内の連結コネクタ（６２）に連結されるコネクタに結合される。
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渦流量計が、ダイアフラムを有する渦反応アセンブリを包含する。ダイアフラムは、アセンブリの基端を封止し、隔離室を形成する。アセンブリは、流動路の側壁における開口部を封止するように適合されている。支持支柱は、好ましくは、アセンブリから流動路内に突出している。一つの機器構成では、渦振動センサプレートは、ダイアフラム上に支持された隣接端部と、無支持の対向する末端端部とを有する。渦振動センサプレートは、好ましくは支持支柱によって支持されている、上流側および下流側端部を有する。旋回支柱は、渦振動センサプレートの中心領域に沿って延伸している。旋回支柱は、ダイアフラムを通して延伸している。旋回支柱は、センサに渦振動を伝達する。電子伝送回路は、センサ出力を受け、流体の流量に関する出力を提供する。
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第１のノードＡが第１のメッセージを第２のノードＢに送信する。第２のノードＢは第２のメッセージを第１のノードに送信する。第１のメッセージの送信開始から第２のメッセージの受信開始までの第１経過時間が測定される。第１のメッセージの受信開始から第２のメッセージの送信開始までの第２経過時間が測定される。第２のノードＢは第２経過時間を含む第３のメッセージを第１ノードＡに送信する。第１のノードＡと第２のノードＢとの間の距離は、第１経過時間と、第２経過時間と、第２のメッセージに含まれるカウント校正乗数または第３のメッセージに含まれるカウント校正乗数とに基づいて演算される。ノードは無線メッシュネットワーク内を移動してもよい。ノードの位置情報及び当該ノードから近隣のノードまでの距離が測定され、ネットワークマネージャに送信されて蓄積される。 （もっと読む）

工業用プロセスを監視又は制御するための工業用プロセス装置（１３０）は、第１のプロセス変数ＰＶ１に関連する第１の複数のサンプルを受信するように構成された第１の入力と、第２のプロセス変数ＰＶ２に関連する第２の複数のサンプルを受信するように構成された第２の入力とを含む。補償回路（１５０Ａ、Ｂ）は、第１の複数のサンプルと第２の複数のサンプルとの間の時差を補償して、第１及び第２のプロセス変数の少なくとも一方に関連する補償された出力を提供するように構成される。補償された出力を含むことができるか、又はそれを用いて第３のプロセス変数を算出することができる。第３のプロセス変数を用いて、工業用プロセスを監視又は制御することができる。
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