説明

カサイ工業株式会社により出願された特許

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【課題】瓦の表面の釉薬層における赤外線反射性能を安定させる為の低蓄熱性無機材料体及びその製造法の提供。
【解決手段】スピネル型結晶構造の遷移金属酸化物の存在量により釉薬層における熱吸収率が変化するので、当該スピネル型結晶構造の遷移金属酸化物の存在量を制御することにより、釉薬層の蓄熱性、即ち赤外線反射性能を制御する。 (もっと読む)


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