【課題】監視したり人手を要したりすることなく、容易にかつ確実にプラズマを点火した
り再点火したりすることが可能なプラズマ点火技術を提供する。
【解決手段】所定の高周波信号ＨＳを発生しプラズマ発生させるための負荷電極１１４に
供給する高周波電源装置１０１、高周波電源装置側と負荷電極側とのインピーダンスを整
合させる整合装置１０５、高周波信号ＨＳの進行波および反射波を検出する進行波・反射
波検出装置１０２、所定の高電圧ＨＶを発生する高電圧発生装置１０３、反射波の進行波
に対する比率が第１のしきい値より大きい場合に高電圧ＨＶを高周波信号ＨＳに重畳する
制御装置１００を備える。 （もっと読む）

【課題】監視したり人手を要したりすることなく、容易にかつ確実にプラズマを点火したり再点火したりすることが可能なプラズマ点火技術を提供する。
【解決手段】所定の高周波信号ＨＳを発生しプラズマ発生させるための負荷電極１１４に供給する高周波電源装置１０１、高周波電源装置側と負荷電極側とのインピーダンスを整合させる整合装置１０５、高周波信号ＨＳの進行波および反射波を検出する進行波・反射波検出装置１０２、所定の高電圧ＨＶを発生する高電圧発生装置１０３、反射波の進行波に対する比率が第１のしきい値より大きい場合に高電圧ＨＶを高周波信号ＨＳに重畳する制御装置１００を備える。 （もっと読む）

【課題】高周波電力供給部のレイアウトを改善し、さらには高周波電力供給部の伝送線路上でプラズマからの高調波が共振するのを確実に防止すること。
【解決手段】このプラズマ処理装置において、半導体ウエハＷを載置するサセプタ１２は、絶縁性の筒状保持部１４を介してチャンバ１０の底部から垂直上方に延在する筒状支持部１６に支持されている。筒状支持部１６の内側には、サセプタ１２に対して背面側から給電棒３４を介してプラズマ生成用の高周波電力とＲＩＥ用の高周波電力とを給電する高周波給電部３２が設けられている。この高周波給電部３２には、用力室Ｒｂの直流電源部３６よりプラズマ生成用の直流電力がケーブル３８を介して供給されるとともに、用力室Ｒｂの高周波電源４０よりＲＩＥ用の高周波電力がケーブル４１を介して供給される。 （もっと読む）