【課題】コヒーレンス走査干渉計及びこのコヒーレンス走査干渉計を用いた物体の高さ形状測定するための方法に対して、測定精度や測定特性の再現性に関する改良を行なうことである。
【解決手段】光源２と、干渉計と、経路長変更ユニットと、検出面を有するカメラ３とが備えられている。経路長変更ユニットは、測定ビームと基準ビームの光路長を変更するように構成されている。経路長変更ユニットは、経路目盛１１と経路検出器１２とを有しており、経路目盛１１と経路検出器１２とは、経路長変更ユニットによる測定ビームの光路長変更または基準ビームの光路長変更あるいはその両方の光路長変更の際に、経路検出器１２の同期的な動きが経路目盛１１に対して相対的に行なわれるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成により、参照ミラーを僅かに傾斜させるだけで、ウェハなどの試料（被測定物）の表面形状を計測し、ごみやポールピースなどの正確な座標位置を特定し、電子顕微鏡、描画装置などの荷電粒子ビーム装置にその正確なデータを送受信して、作業効率の向上に一層貢献することができる測定方法及び測定装置を提供する。
【解決手段】ウェハなどの試料にレーザ光を照射し、干渉計を用いて、試料の表面内部を観察検査する測定方法及び装置において、ビームスプリッターと参照ミラーとの間に光を導光するための参照光路を設けるとともに、ビームスプリッターと試料との間に光を導光するための測定光路を設けて、参照光路と測定光路において光学的光路差を設ける。しかも、参照ミラーを微小量傾けることによって、検出手段に干渉縞を形成する。 （もっと読む）

試験対象物の異なる表面箇所に対応する複数の干渉分光信号から導出可能な情報と、試験対象物の複数のモデルに対応する情報とを比較することであって、複数のモデルは、試験対象物の１つまたは複数の十分に分解できない横方向の特徴に関連する一連の特性によってパラメータ化されている、比較すること、比較に基づいて十分に分解できない表面特徴についての情報を出力することを含む干渉分光解析法を開示する。
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【課題】互いに異なる方向からの２光束照射に係る各々の位相シフト操作を高精度に同時に行なうことが可能な２光束照射方向切替型のスペックル干渉計装置を得る。
【解決手段】光学部材載設部１０に、光路長可変手段６０が配設されている。この光路長可変手段６０は、１つの駆動手段６２により反射光学素子６１を微動させることにより、反射光学素子６１を経由する各一方の照明用光束１４ｂ，１５ａと、反射光学素子６１を経由しない各他方の照明用光束１４ａ，１５ｂとの光路長差を変化させる２つの位相シフト操作を、一元化して同時に行なうように構成されている。 （もっと読む）

【課題】互いに平行な相異なる仮想面上にそれぞれ位置するように形成された複数種の小被検面を有する被検体において、低可干渉性の測定光を用いるとともに各小被検面の光検出面における像の形成状態を調整することにより、各小被検面の高さ方向に対する同一平面性を容易かつ高精度に測定できるようにする。
【解決手段】光源１１は低可干渉性光源であり、第１の測定時には各金属配線５５の上面５５ａからの反射光と基準面２１ａからの反射光とが干渉し、第２の測定時には各導電層小域面５４ｂからの反射光と基準面２１ａからの反射光が干渉するように光路調整がなされる。光検出面２７は複数の検出単位領域に分割されており、検出単位領域ごとに平均化されて検出された各光強度に基づき、各金属配線５５の上面５５ａまたは各導電層小域面５４ｂに接する第１または第２の仮想接面の全体的な形状に対応した干渉縞情報を得る。 （もっと読む）

走査型干渉計は、測定値のダイナミックレンジを広げるための波長が異なる２つの干渉計モジュール、複数の表面を測定するための複式プローブ及び複式プローブで測定された表面を弁別するための共焦点光学システムを用いる。複式プローブ内で、小型光学系が試験ビームを異なる試験表面に垂直に集束される２つの二次試験ビームに分ける。いずれの二次試験ビームも異なる波長を含む。別の干渉計が試験表面の絶対測定値を得るために複式プローブの移動をモニタする。
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【課題】 粗面における干渉縞のコントラスト、測定効率を改善するものである。
【解決手段】 不透明な試料の表裏面の平行度を同時に平面度を測定するために、両面に干渉計を設置し、プリズムを用いて試料への入射角を大きくした。平行度及び平面度の計算方法は、試料をプリズムの底面に垂直な方向に一定の距離で動かし、干渉縞の変化を画像処理し、表裏それぞれの面について位相シフト法により計算する。本発明では、様々なサイズや表面粗さを持つ不透明な試料に対応可能ということと、表裏面同時計測による測定時間の短縮が可能である。斜入射にすることで粗面における干渉縞のコントラストを良くし、かつ、斜入射干渉計を表裏それぞれに設置することで、不透明な粗面試料の平行度及び平面度測定を同時に秒単位で行うことが可能である。 （もっと読む）

本発明は、表面の３次元検査及び測定用の両用（共焦点干渉）方式光学側面計に関する。本発明は、光源（ＬＥＤ）、ビームスプリッタ（少なくとも一つは偏光性）、照明パターン発生手段（ＬＣｏＳマイクロディスプレイ）、及び標準のレンズの形状では共焦点像が得られ干渉レンズでは干渉像が得られる交換可能な顕微鏡レンズを備える。本発明によれば、マイクロディスプレイは、共焦点像を得るために一連の光パターンを発生するか又は干渉像を得るために全ての光画素の全開口を生成することができる。本発明の側面計は小型に設計されており、異なる材質を含む組織化又は層状化された試料を含むミクロン及びナノメートルスケールの任意の型の表面の形状及びテクスチャの迅速及び非接触の測定が可能である。
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本発明は、干渉システムに関し、この干渉システムは、光源及び照明光学系を有する照明ビーム路を形成するための照明アームを有し、オブジェクトを測定するための特殊光学系を有する結像ビーム路を形成するためのオブジェクトアームを有し、調整エレメント及びこの調整エレメントに結合された基準エレメントを有する基準アームを有し、検出器を有する検出器アームを有し、ビームスプリッタを有し、基準アームの中にオブジェクトアームの光学的コンポーネントの分散を補償するための分散補償媒質が挿入され、この分散補償媒質は少なくとも部分的に透明である、干渉システムにおいて、分散補償媒質は交換可能であり、特殊光学系にも適合される。これにより、普遍的な白色光干渉計プラットフォームが提供され、この普遍的な白色光干渉計プラットフォームによって様々な測定課題が特殊光学系の単なる交換によって可能になる。
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