あるシステム及び方法が、再構築により、基板上のオブジェクトの概略構造を決定する。これは、例えば、リソグラフィ装置のクリティカルディメンション（ＣＤ）又はオーバレイ性能を評価するための微細構造のモデルベースのメトロロジーなどに適用できる。基板上のスタック上の格子などのオブジェクトの概略構造を決定するためにスキャトロメータが使用される。ウェーハ基板は上層と下地層とを有する。基板はスタックオブジェクト上の格子を含む第１のスキャトロメトリターゲット領域を有する。スタック上の格子は上層と下地層とからなる。上層は周期格子のパターンを備える。基板はさらに、上層がない、隣接する第２のスキャトロメトリターゲット領域を有する。第２の領域は、パターン形成されていない下地層のみを有する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線光学素子の位置決め精度を緩和でき、可干渉性の低いＸ線源でもＸ線干渉を実現でき、一般用途への実用化が図られるＸ線シアリング干渉計を提供する。
【解決手段】Ｘ線シアリング干渉計は、Ｘ線を分割するＸ線分割光学系１０と、Ｘ線分割光学系１０によって分割されたＸ線を干渉させるＸ線干渉光学系２０などで構成され、Ｘ線分割光学系１０とＸ線干渉光学系２０との間には物体Ｗが配置され、Ｘ線分割光学系１０は、間隔Ｄ１で配置された一対の人工格子１１，１２と、人工格子１２からの回折Ｘ線のうち所望の回折Ｘ線だけをブラッグ回折によって選択する結晶格子１３を含み、Ｘ線干渉光学系２０は、間隔Ｄ２で配置された一対の人工格子２１，２２と、人工格子２２からの回折Ｘ線のうち所望の回折Ｘ線だけをブラッグ回折によって選択する結晶格子２３を含む。 （もっと読む）