【課題】本発明は、高価な光学素子を使用したり、複雑な構造の装置を使用することなく、被測定面の放射率分布に影響されずに正しく被測定面の表面温度を測定することができる測定方法及び測定システムを提供することを課題とする。
【解決手段】放射率分布を持つ被測定面と、該被測定面の輝度分布を測定する放射計と、該被測定面に関して該放射計から鏡面反射位置に設置された輝度可変な補助熱源とを用意し、該被測定面の高放射率部と低放射率部の測定輝度が等しくなるように該補助熱源の放射輝度を変化させ、その時の測定輝度から該被測定面の温度を求めることを特徴とする表面温度の測定方法及び測定システム。 （もっと読む）

【課題】シリコンウエハの表面温度を放射率に依存することなく精密に放射温度計測することを可能にする。
【解決手段】高温高速放射温度計用参照光源装置であって、光源用材料として貴金属箔からなるリボン２を使用し、このリボンに電流を流して光源とすると共に、該光源の前方部に、２枚のレンズ３をそれぞれの焦点距離の和の間隔を置いて配置し、かつそれぞれのレンズの焦点位置にチョッパ４を配置することを特徴とする光源装置。次世代ウエハ熱処理工程として開発中のフラッシュランプアニール法（ＦＬＡ）やレーザーアニール法（ＬＡ）において処理されるシリコンウエハの表面温度を放射温度計測するための高温高速放射温度計用参照光源装置を提供することが可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、サーモリフレクタンス法による温度測定が製造現場で可能な表面温度の非接触測定方法及び装置を提供することを課題とする。
【解決手段】測定対象の基板表面に楕円偏光を入射するステップと、基板表面による反射光を、回転検光子をとおして検出し、基準温度で回転周波数の２倍の信号がゼロになるように入射楕円偏光を調整するステップと、基準温度からの温度変化に伴う回転周波数の２倍周波数の信号を検出するステップとを含み、回転周波数の２倍周波数の信号に基づいて測定対象の基板表面の温度を算出することを特徴とする基板表面温度の計測方法及び装置。 （もっと読む）

【課題】基板処理チャンバ中の基板の温度を測定するためのプローブで、自己較正ができるようにする。
【解決手段】プローブは、一方の端部が処理チャンバ中に挿入されている光導体を含み、光導体の他の端部は、二またの光ファイバに結合されており、光源が光ファイバの１つの支線に光学的に結合され、高温計が他の支線に光学的に結合されていて、プローブを自己較正するために、安定した反射率の物体、たとえば金メッキされたウェハがチャンバ中に挿入され、光源が起動され、そのウェハから反射した光の強度を高温計によって測定している。 （もっと読む）

【課題】放射温度測定装置において、灰色体、非灰色体、平面、凸凹面に拘わらず、非接触にて高精度に温度を測定できるようにする。
【解決手段】被測定物Ｗに対して複数の異なる波長領域を含む赤外線を照射する赤外光源１０、赤外光源をオフにした状態で被測定物からの放射光における複数の異なる波長領域での赤外線強度を検出する放射光検出手段３０、４０、赤外光源をオンにした状態で被測定物からの放射光及び反射光の重畳光における複数の異なる波長領域での赤外線強度を検出する重畳光検出手段３０，４０、放射光検出手段及び重畳光検出手段の検出情報に基づいて被測定物の温度を演算する演算手段８０を備え、赤外光源１０は、被測定物の測定表面側Ｗｓから観て、放射光検出手段及び重畳光検出手段を取り囲むように形成されている。これにより、測定表面が凸凹状であっても高精度に温度を測定できる。 （もっと読む）