説明

Fターム[2H016AF04]の内容

Fターム[2H016AF04]に分類される特許

1 - 3 / 3


【課題】めっき処理時に見られるような線幅の太りがなく、かつ簡便な方法によって、高精細かつ高導電性の配線パターンが得られる導電性材料の製造方法を提供する。
【解決手段】基材の少なくとも一方の面に銀画像パターンを形成する工程と、該銀画像パターン上に銀を主体とする金属微粒子を含む金属コロイド溶液を塗布し金属微粒子膜を形成する工程と、該銀画像パターンと該銀画像パターン上の金属微粒子膜に対して水溶性ハロゲン化物を作用させる定着工程と、水洗工程を少なくともこの順に行うことを特徴とする導電性材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】導電性に優れ、且つ、高精細な配線パタンを形成することができる導電性基材の作製方法を提供する。
【解決手段】支持体の少なくとも一方の面に写真製法により銀画像を形成した後、該銀画像を形成させた材料に紫外線を照射し、その後無電解めっきを施す。 (もっと読む)


【課題】透明性と導電性が共に高く、かつ保存安定性の良い導電性材料、およびそれが得られるための製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を含有する銀塩感光材料を導電性材料前駆体として使用する導電性材料において、導電性材料に析出した銀画像パターンのX線回折法での2θ=38.2°のピークの半値幅が0.41以下であることを特徴とする導電性材料を用いる。また、該導電性材料の製造方法であって、該導電性材料前駆体を現像し、画像形成した後に還元性物質、水溶性リンオキソ酸化合物、水溶性ハロゲン化合物のいずれかを少なくとも1種類以上含有する後処理液もしくは55℃以上の温水で処理することを特徴とする導電性材料の製造方法を用いる。 (もっと読む)


1 - 3 / 3