【課題】記憶容量が大きく、かつ感度が高いデジタルボリュームホログラフィに好適な光記録用組成物および前記光記録用組成物を用いた超高密度光記録が可能なホログラフィック記録媒体を提供すること。
【解決手段】下記一般式(I)で表される双環化合物を含有する重合性組成物。前記重合性化合物から形成された記録層を有するホログラフィック記録媒体。


［一般式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｘはメチレン基または酸素原子を表す。］ （もっと読む）

【課題】所望の高感度・高解像度およびレジスト膜の環境安定性を持ちつつ、エッチング耐性、現像液に対する溶解速度、感度を向上させることのできるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のレジスト組成物は、（１）簡便に高収率で得ることが出来る、（２）汎用レジスト溶剤および現像液に可溶である、といった特性を持つフラーレン誘導体を用いることを特徴とする。これにより、溶解速度が著しく向上することから高解像度なパターンが得られ、現像不良などの基板欠陥形成を防止できる。 （もっと読む）

【課題】高膜厚塗布が可能であり、解像度の高い硬化物を得ることが可能で、表面保護膜、層間絶縁膜、及び高密度実装基板用絶縁膜用途に適する感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ポリイミド樹脂、（Ｂ）フェノール性水酸基を有する樹脂、（Ｃ）光酸発生剤、及び（Ｄ）架橋剤を含有する感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィー・パターニング法を提供する。この方法は、パターニングされるべき表面に、ポリマー樹脂、化学線に露光されて触媒を発生させる光触媒発生剤、および失活剤を有するフォトレジストを塗布する工程と、該フォトレジストを、マスクパターンを通して化学線に露光する工程と、露光後焼き締め（ＰＥＢ）を行う工程と、その後、現像液内で溶解性になったフォトレジストの一部を除去するため、現像液を用いて前記フォトレジストを現像する工程とを有する。前記ポリマー樹脂は、前記化学線に露光される前では、前記現像液に実質的に不溶性であり、かつ、前記触媒の作用によって、また、前記露光後焼き締め中の前記失活剤の作用によって、前記現像液内で溶解性になるか、あるいは、前記ポリマー樹脂は、前記化学線に露光される前では、前記現像液内で溶解性であり、かつ、前記触媒の作用によって、また、前記露光後焼き締め中の前記失活剤の作用によって、前記現像液内で実質的に不溶性になるかのいずれかである。
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硬化性カバーコート組成物は、エステル化スチレン無水マレイン酸オリゴマと光開始剤組成物と硬化剤とを含有する。前記オリゴマにおいてエステル基は、アクリレート基またはメタクリレート基または両方の基を含む。硬化性カバーコート組成物は、２液組成物で形成し得る。これら２液は使用前に混合される。これら２液は貯蔵寿命を確実に長くするため別々に貯蔵される。さらに、これら２液を相異なる比で混合することにより、小さな収縮性と大きなフレキシビリティと長寿命とが望まれている広範な商業的用途のプリント回路基板に使用し得る硬化されたカバーコートが得られる。 （もっと読む）