【課題】ハイパーブランチポリマーを簡便かつ安定的に大量合成すること。
【解決手段】金属触媒存在下、リビングラジカル重合可能なモノマーを重合することによりハイパーブランチポリマーの合成に際して、リビングラジカル重合によって合成されたハイパーブランチポリマーを含む反応溶液に溶解度パラメータが１０．５以上である溶媒を混合して沈殿物を生成する沈殿物生成工程を行うようにした。これによって、吸着剤を用いることなく金属触媒、モノマーおよび副生物のオリゴマーなどの不純物を簡便に除去できるため、ハイパーブランチポリマーを簡便かつ安定的に大量合成することができる。 （もっと読む）

【解決手段】紫外線、遠紫外線、電子線、ＥＵＶ、Ｘ線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線の高エネルギー線に感応し、一般式（１ａ）で示されるスルホン酸を発生する化学増幅型レジスト材料用の光酸発生剤。
ＲＣ（＝Ｏ）Ｒ¹−ＣＯＯＣＨ（ＣＦ₃）ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ａ）
（Ｒは水酸基、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基又はヘテロアリールオキシ基。Ｒ¹は酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を持つ置換基を有してもよい二価有機基で、Ｒと共に環状構造を形成してもよい。）
【効果】本発明の光酸発生剤は、レジスト材料中の樹脂類との相溶性がよく、酸拡散制御を行うことができる。また、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤はデバイス作製工程での塗布、露光前焼成、露光、露光後焼成、現像の工程に問題なく使用できる。 （もっと読む）

【課題】
光応答性を低下させることなく、成膜性に影響する構造部分や表面物性に影響する部位を柔軟に変換でき、比較的低エネルギーの波長光により表面変換が可能で、かつ、再現性良く基板上に有機薄膜を形成できる化合物、及び、基体表面に該化合物を含有する組成物から形成された有機薄膜を有する有機薄膜形成体を提供する。
【解決手段】
下記式（Ｉ）で示される化合物、及び、基体表面に、前記式（Ｉ）で示される化合物を含む有機薄膜形成用組成物から形成された有機薄膜を有する有機薄膜形成体。
【化１】


〔式中、Ｘはヘテロ原子を含有する官能基を表す。Ｒはハロゲン原子で置換された（Ｃ１〜Ｃ２０アルキル基、Ｃ１〜Ｃ２０アルコキシ基）等を、ｎは１〜３０の整数を、ｍは１〜５の整数を、Ｇ１は単結合又は炭素数が１〜３の２価の炭化水素基を表し、Ａｒは置換基を有していてもよい２価の芳香族基を表し、Ｇ２は酸素原子等をそれぞれ表す。〕 （もっと読む）