説明

Fターム[2H025EA07]の内容

フォトレジストの材料 (104,520) | 層形成方法及びそのための装置 (1,103) | 層形成 (919) | ラングミュア、ブロジェット(LB)法 (3)

Fターム[2H025EA07]に分類される特許

1 - 3 / 3


【課題】レジスト材料などに有用な単分子膜およびそれらが複数積層した積層膜を提供する。
【解決手段】 シルセスキオキサン誘導体からなるアクリル系又はスチレン系付加重合性単量体と一般式(B)で表される付加重合性単量体との共重合体の単分子膜を基板に被覆することによって、単分子膜、または積層膜を得る。


(一般式(B)において、Rbは水素もしくはメチルを表し、Z2は−NH−であり、nは2〜20の整数である。) (もっと読む)


【課題】不純物が少ない緻密な単分子膜を迅速に形成でき、一般的な露光装置にて容易に光反応を起こす光反応性の有機薄膜を形成する方法、及びその形成方法に用いる有機薄膜形成用溶液を提供する。
【解決手段】有機薄膜形成用溶液を、基材の表面に接触させる工程を有する有機薄膜形成方法であって、前記有機薄膜形成用溶液が、ヘテロ原子を含む官能基を有する感光性化合物を、有機溶媒中、金属、金属酸化物、金属塩、金属水酸化物、金属アルコキシド類、キレート化又は配位化された金属化合物、金属アルコキシド類を水で処理して得られる加水分解生成物、及び酸から選ばれる少なくとも1種、並びに水で処理することによって得られるものであることを特徴とする有機薄膜形成方法、及び前記有機薄膜形成用溶液。 (もっと読む)


本発明は、基体と、該基体上に、加水分解性基及び/又は水酸基を合計で2以上有する金属化合物、加水分解性基及び/又は水酸基を合計で2以上有する金属キレート化合物、金属有機酸塩、並びにこれらの部分加水分解生成物からなる群から選ばれる少なくとも一種に、水を添加して得られた第1の薄膜形成用組成物から形成された第1の薄膜と、該第1の薄膜上に、有機金属化合物から形成された第2の薄膜を有することを特徴とする光感応性基体、並びにこの光感応性基体の所定部分を光照射し、光照射された部分の有機金属化合物の光持性の変化を利用すること、分解及び/又は除去することを特徴とするパターニング方法である。本発明によれば、紫外光に対して高感応性の光感応性基体、及びこの光感応性基体を使用して、短時間で微細なパターニングが可能なパターニング方法が提供される。 (もっと読む)


1 - 3 / 3