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Fターム[2H048BB02]の内容

光学フィルタ (54,542) | ストライプフィルタの構造、用途 (17,776) | 構造 (10,447) | 分光特性の異なるフィルタの水平配置 (5,350)

Fターム[2H048BB02]に分類される特許

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【課題】 固体撮像装置の受光部に結像される像において、撮像領域周辺部に生じる色信号レベルの差、すなわち、色シェーディングの発生をおさえる。
【解決手段】 固体撮像装置20は、半導体基板11上に複数の受光部12、複数の電荷転送部13、層間膜14、遮光膜15、平坦化膜16が形成されている。さらに、平坦化膜16上に赤色フィルター17、緑色フィルター18、青色フィルター19が受光部の位置に合わせて形成されている。また、赤色フィルター17、緑色フィルター18、青色フィルター19は、凸状であり、それぞれマイクロレンズとしても機能するカラーフィルターである。そして、その曲率は、赤色フィルター17、緑色フィルター18、青色フィルター19の順に、小さいことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】樹脂液に対する高い溶解性と、現像性に優れ、高感度、高解像度、高透過率特性を有し、しかも熱堅牢性、および光堅牢性の優れた着色硬化性組成物、並びにそれを用いたカラーフィルタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で表される基を少なくとも1つ分子内に有するテトラアザポルフィリン系色素を含有することを特徴とする着色硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタおよびその製造方法である。
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【課題】 照明光の分光特性が不均一であっても、これに起因した色再現性の低下を抑えることができ、反射モード時にも透過モード時にも、発色がよく、視認性の高い表示ができるカラーの半透過反射型液晶表示装置を提供する。
【解決手段】 本発明の液晶表示装置は、各々が異なる色に対応する複数のサブ画素551からなる画素615を有する液晶表示パネルと、照明装置とを具備し、液晶表示パネルは、半透過反射層と、各サブ画素511に対応する色のカラーフィルタ522とを具備し、半透過反射層は照明光を透過させる透光部を有し、複数のサブ画素511のうち少なくとも1つのサブ画素における透光部に対応する光透過領域の面積と、他のサブ画素における透光部に対応する光透過領域の面積とが異なるように、前記透光部が形成されている。 (もっと読む)


【課題】 イエロー色相が良好で、光堅牢性、熱堅牢性が高く、経時安定性に優れた着色硬化性組成物並びにカラーフィルタを提供する。
【解決手段】 下記一般式(Y1)で表される化合物を含有する〔Ry1:脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、脂肪族スルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基;Ry2:H、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基;Ry3,Ry4:置換基;ym=1〜3、yn=0〜2(ym+yn=1〜3)、yp=0〜5〕。
【化1】
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【課題】 露光やアルカリ現像、後加熱等に伴なって生じ得る耐光性の低下を抑え、露光やアルカリ現像、後加熱後における高い耐光性の保持を可能とする。
【解決手段】 (A)アルカリ可溶性バインダー、(B)有機溶剤可溶性染料、及び(C)感放射線性化合物と共に(D)ナフタロシアニン化合物を含有し、前記(A)〜(D)の全質量に対し、前記(B)の添加量を30〜70質量%とし、前記(D)の添加量を0.05〜10質量%とする。 (もっと読む)


【課題】
パターン形成時の不溶解残渣を減少させることができ、かつ形成されたパターンの密着性が高い、着色感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
着色剤(A)、バインダーポリマー(B)、光重合性化合物(C)、光重合開始剤(D)、溶剤(E)およびテルペノイド化合物(F)を含み、テルペノイド化合物(F)の含有量が溶剤(E)とテルペノイド化合物(F)との合計量に対して質量分率で0.5質量%以上20質量%以下である着色感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】カラー液晶表示装置、カラー撮像管素子等に用いられるカラーフィルタに適した、色再現性に優れた、カラーフィルタの提供。
【解決手段】600nmにおける分光透過率が2%になるように塗膜を形成した際に、該塗膜における長波長側の分光透過率50%の波長が530nmから560nmの範囲にあり、かつ短波長側の分光透過率50%の波長が500nm以下の範囲となり、かつ分光透過率の最大値が75%以上となる分光特性を有する緑色着色組成物、および赤色フィルタセグメント、青色フィルタセグメント、および2種の分光特性が異なる緑色フィルタセグメントを具備するカラーフィルタであり、少なくとも1種の緑色フィルタセグメントが前記緑色着色組成物から形成されているカラーフィルタ。 (もっと読む)


【課題】 複数の設計波長で動作する3次元フォトニック結晶において、格子周期を変化させることなくフォトニックバンドギャップ波長帯域を所望の波長に制御することができる3次元フォトニック結晶、もしくはその内部に点欠陥共振器構造や線欠陥導波路構造を備えた光学素子を提供する。
【解決手段】 複数波長でフォトニックバンドギャップとして動作する3次元フォトニック結晶において、格子周期を変化させることなく、柱状構造間に具備した付加層に含まれる離散構造の形状および屈折率を制御することによってフォトニックバンドギャップ中心波長や波長帯域を制御する。 (もっと読む)


【課題】 画素領域内の白抜けを低減すると共に、同一色の色層の膜厚を略均一にすることができるカラーフィルタの成膜方法、この成膜方法を用いた成膜装置、電気光学装置および電子機器の製造方法を提供すること。
【解決手段】 同一方向に配置された同一色となる複数の画素領域2と、この複数の画素領域2を区画する撥液性の隔壁部1とに、液滴吐出ヘッド13のノズル21から等間隔で着色インクを液滴4として吐出する。着弾した着色インクは相互に濡れ広がって合体し、帯状のインク層5を形成する。この後にインク層5の溶媒成分を蒸発させれば、着色インクは画素領域2内に収容され、着色インク中の固形分が隅々まで行き渡った色層8が成膜される。 (もっと読む)


【課題】調整機構及び制御機構を簡素化すると共にパターン形成を高精度かつ効率的に行うことを可能とするインクジェット方式のパターン形成装置等を提供する。
【解決手段】インクジェットヘッド311毎に位置決めブロック312が設けられ、複数の位置決めブロック312は、スライド機構(スライダ313、スライドレール314)を介して着脱可能にベース部材315に連結される。また、スライド機構の両端部に当て止め機構321及び押し付け機構322を設けることにより、位置決め精度の向上を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】 環境負荷が小さく、薄層で高遮光性を有し、かつ観察者側から見た時に反射率の低いFEDとこのFEDに用いられる遮光膜付基板を提供すること。
【解決手段】 基板と、該基板の少なくとも一方の側の、少なくとも一部に遮光膜を有す、フィールドエミッションディスプレイ用遮光膜付基板であって、該遮光膜が、金属微粒子を含有する樹脂層を含み、該遮光膜の555nmにおける厚さ1μmあたりの光学濃度(OD)が3から20であるフィールドエミッションディスプレイ用遮光膜付基板とこの基板を用いたフィールドエミッションディスプレイ (もっと読む)


【課題】 本発明は、細線化されたブラックマトリクスを有するブラックマトリクス基板、およびそのブラックマトリクス基板の製造方法を提供することを主目的としている。
【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、基材上に、ブラックマトリクス形成用ポジ型レジストを塗布するレジスト塗布工程と、
前記ブラックマトリクス形成用ポジ型レジストに、フォトマスクを用いて、パターン状にエネルギーを照射し、第1露光部を形成する第1露光工程と、
前記フォトマスクの遮光部の各辺の垂直方向について、前記各辺の遮光部幅未満の距離だけ、前記フォトマスクを移動させて配置し、前記ブラックマトリクス形成用ポジ型レジストに、エネルギーを照射し、第2露光部を形成する第2露光工程と、
前記第1露光部および前記第2露光部の前記ブラックマトリクス形成用ポジ型レジストを除去する現像工程と、
未露光の前記ブラックマトリクス形成用ポジ型レジストを焼成する焼成工程と
を有することを特徴とするブラックマトリクス基板の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】高感度の光重合開始剤の提供。
【解決手段】特定構造を有するオキシムエステル系化合物が提供される。特に該オキシムエステル系化合物は、(a)黒色色材、(b)有機結合材及び(c)光重合開始剤を含有する光重合性組成物の(c)を構成する。
【効果】高感度の光重合開始剤として利用可能である。これを用いた光重合性組成物は、薄膜において高遮光性でありながら感度、解像性に優れるため、低コストで高品質の樹脂ブラックマトリックス(BM)を形成することができる。この樹脂BMを用いたカラーフィルターは精度、平坦性、耐久性において優れるため、液晶素子の表示品位を向上させることができる。また、製造工程およびカラーフィルター自体にも有害な物質を含まないため、人体に対する危険性を低減し環境安全性が向上する。フォトスペーサやリブ(液晶分割配向突起)など色材を用いない用途にも応用可能である。 (もっと読む)


【課題】 色相(色再現性)および光堅牢性、熱堅牢性に優れた硬化性組成物及びカラーフィルタを提供する。
【解決手段】 下記一般式(M1)で表される化合物を含有する〔ZM1:ハメットの置換基定数σp値が0.20以上の電子求引性基;B1,B2:CRM1、CRM2、窒素原子;ZM2,RM1,RM2:H、ハロゲン、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基など;RM3,RM4:H、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アシル基など;RM5,RM6:H、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アシル基など(RM5とRM6とは同時に水素原子を表すことはない);QM:単環5員複素環基〕。
【化1】
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【課題】現像時の未溶解物およびパターンエッジにスカムを生じることがなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けおよびアンダーカットを生じることがない画素およびブラックマトリックスを与える着色層形成用感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】(A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体および(D)下記式(1)で表される化合物を必須成分とする光ラジカル発生剤を含有することを特徴とする着色層形成用感放射線性樹脂組成物。
【化1】


〔式中、R1、の何れかが、アルキル基、アリサイクリック基、含酸素複素環基、含窒素複素環基、含酸素複素環基、含硫黄複素環基であり。R、R、RおよびRは水素原子、アルキル基を示す。〕 (もっと読む)


【課題】硬化が十分に行われた着色画素を有し、パターンずれなく、且つ突起のないカラーフィルタを工程を増やすことなく、容易に製造することのできるカラーフィルタの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス基板10上に樹脂ブラックマトリックス、着色画素が順次に形成されたカラーフィルタをフォトリソグラフィ法により製造するカラーフィルタの製造方法において、樹脂ブラックマトリックス11を形成する際の現像後の熱硬化処理、及び各色着色画素14を形成する際の現像後の各熱硬化処理を、最終着色画素を形成する際の現像後の熱硬化処理と同時に一括して行うこと。 (もっと読む)


【課題】 反射・透過両用LCDに好適であって、表示上一画素をなす領域内に部分的に膜厚を変化させた像構造を一括して、簡便かつ高い解像度で形成することができる液晶表示装置用構成物の製造方法を提供する。
【解決手段】 基体上に設けられた第1のネガ型感光性樹脂層及び第2のネガ型感光性樹脂層の両層を同時に、2値以上の異なるエネルギー量でレーザー露光する工程を有し、第1のネガ型感光性樹脂層の光感度h1と第2のネガ型感光性樹脂層の光感度h2との比h1/h2が1より大きくなっている。 (もっと読む)


【課題】 導電性異物によるカラーフィルタ基板の突起構造部上の対向電極と対向基板の画素電極との短絡を防止することや、セルギャップ調整用積層フォトスペーサを安定した高さで形成することにより、液晶表示装置の歩留り及び表示品位を向上させることができるとともに、製造工程を簡略化することができるカラーフィルタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に突起構造部及び液晶の配向制御用突起を有し、突起構造部上の対向電極上に間隔保持用樹脂層を備えるカラーフィルタ基板の製造方法であって、上記カラーフィルタ基板の製造方法は、配向制御用突起の形成工程及び間隔保持用樹脂層の形成工程が、支持体上に樹脂膜が設けられたフィルムを対向電極上に圧着し、更に支持体を剥離して樹脂膜を対向電極上に転写する工程と、樹脂膜をパターニングする工程とからなり、かつ、少なくとも1つの共通する工程が一括して行われるカラーフィルタ基板の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】 内在反射方式の半透過反射型カラ−液晶表示装置は、透過表示の彩度と明るさが不足しているという問題点がある。
【解決手段】 第1の偏光板11と、カラーフィルタ13とパターンニング位相差層9と半透過反射層7を第1基板に内在した液晶素子20と、第2の偏光板12を備え、パターンニング位相差層の膜厚を0.3〜0.6μにすることで、半透過反射層の開口部のカラーフィルタ膜厚が、非開口部のカラーフィルタ膜厚より厚くなり、追加工程無しで、高彩度で、明るい透過表示が得られ、かつ、明るい反射表示も可能である内在反射方式の半透過反射型カラー液晶表示装置を得られた。 (もっと読む)


【課題】 バンク部により構成された基板上の各画素領域の全域を、確実且つ安定して機能液で満たすことができる液滴吐出装置等を提供することを課題とする。
【解決手段】 複数の画素領域507aに対し、機能液滴吐出ヘッド16により機能液滴を吐出・着弾させる液滴吐出手段と、各画素領域507aに着弾した機能液滴Dに対し、ガスを噴き付けるガスブロー手段60と、基板Wに対し、機能液滴吐出ヘッド16およびガスブロー手段60を相対的に移動させる移動手段12と、各手段を制御する制御手段8と、を備え、制御手段8は、基板Wに対して機能液滴吐出ヘッド16を相対的に移動させながら、各画素領域507aに機能液滴Dを吐出・着弾させると共に、各画素領域507aに着弾した機能液滴Dが各画素領域507aの全域に行き渡るように、各画素領域507aに対し、上方からガスを噴き付ける。 (もっと読む)


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