【課題】ハイメサ型導波路における基本モードの曲げ伝播損失が抑制された光集積素子および光集積素子の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に突出しながら該基板表面に沿って延設され、下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に形成され該下部クラッド層よりも大きい屈折率を有するコア層と、前記コア層上に形成され該コア層よりも小さい屈折率を有する上部クラッド層とを有する導波路と、を備え、前記導波路は、直線導波路部と前記基板の表面と平行な面内において曲げを有する曲げ導波路部とを含み、前記曲げ導波路部における下部クラッド層の前記基板からの突出高さは、前記直線導波路部における下部クラッド層の前記基板からの突出高さよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成された光変調膜を用いた光制御装置において、光変調膜のドライブ回路を基板上に形成した場合でも、表示領域を充分に確保する技術を提供する。
【解決手段】光制御装置８は、基板３２と、絶縁膜３８と、第一のトランジスタ１４と、絶縁膜３８上に設けられた反射膜４４と、反射膜４４上に設けられた光変調膜４６と、光変調膜４６に配して二次元に配置された第一の電極４８および第二の電極４９と、第一の電極４８の上に設けられた偏光板５２とを有する。ここで、光変調膜４６は、印加された電界の大きさにより屈折率が変化する材料により構成される。このような材料として、Ｐｂ、Ｚｒ、ＴｉおよびＬａを構成元素として含むＰＬＺＴを用いることができる。 （もっと読む）

【課題】
平面表示装置の製造工程中、各製造工程が正常に進行したかを検査する際、被検体と接することなく検査できるようにする。
【解決手段】
上部ガラス板と、前記上部ガラス板の下面全体にコーティングされた導電層と、前記上部ガラス板に対して下方に離隔して配置され、上部ガラス板より大きい面積を有する下部ガラス板と、前記上部ガラス板と下部ガラス板との空間が外部と分離されるように区画し、外側面が前記上部ガラス板の側面と同一線上に位置するように配されたシール材と、前記上部ガラス板と下部ガラス板とシール材によって区画された空間に充填され電気光学材質よりなる変調層と、前記上部ガラス板の側面から前記シール材の外側面まで連続的に塗布された導電体とを含む。 （もっと読む）

【課題】 低電圧駆動の高速デジタル光スイッチを提供する。
【解決手段】 本発明のデジタル光スイッチは、ＫＴaＯ₃、ＫＮbＯ₃またはＫＴａ_1-xＮｂ_xＯ₃（０＜ｘ＜１）のいずれかの材料からなる基板上にＫ_1-yＬｉ_yＴａ_1-xＮｂ_xＯ₃（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）またはＫＴａ_1-xＮｂ_xＯ₃（０＜ｘ＜１）のいずれかの材料からなるコア導波路を配置する。コア導波路と比較して僅かに屈折率が低いＫ_1-yＬｉ_yＴａ_1-xＮｂ_xＯ₃（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１）をクラッド層とした三次元光導波路の下部クラッド層の下方若しくは上部クラッド層上方の少なくとも一方に形成されたコア導波路に電界を与えるための電極を備える。三次元光導波路により構成され、送られてきた光信号を受け取るための入力端を有する第１の入力光導波路と、第１の入力導波路から分岐する第２の出力光導波路と第３の出力光導波路とを含み、第２の出力光導波路および第３の出力光導波路に電極を備えたＹ分岐型導波路とを備える。 （もっと読む）

【課題】 衝撃固化現象による成形体に形成された導波路を有する光学素子及びその光学素子を含む光集積デバイスを提供する。
【解決手段】 基板上に供給した超微粒子脆性材料に機械的衝撃力を負荷して前記超微粒子脆性材料を接合させて形成した成形体の光吸収端を、局所加熱により制御し、導波路を形成する。 （もっと読む）

【課題】
従来よりも挿入損失を抑制し、かつ低駆動電圧で動作可能な光制御素子を提供すること。
【解決手段】
電気光学効果を有する結晶基板１と、該基板に形成された光導波路２と、該光導波路を通過する光を変調するための変調電極とを有する光制御素子において、該変調電極を構成する信号電極３と接地電極４のうち、少なくとも一方にはＴｉとＩｎの複合酸化物からなる赤外透明導電膜１２が用いられることを特徴とする。
好ましくは、該信号電極３と該接地電極４の少なくとも一方が、該赤外透明導電膜と金属膜とからなる２層以上の構造を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 低電圧で動作させることができ、複雑な駆動回路を必要とせず、高効率であり、光ファイバー等との結合損失が小さい電気光学デバイスを提供する。
【解決手段】 主光導波路３と、主光導波路から分岐された第１，第２の光導波路４，５とが形成されている電気光学基板２と、電気光学基板２の上面において、第１，第２の光導波路の少なくとも一部において、各光導波路の少なくとも一部を覆うように設けられた第１，第２の上部電極９，１０と、第１，第２の上部電極９，１０と対向するように第１，第２の光導波路４，５の下面側に設けられた第１，第２の下部電極７，８とを備え、第１の上部電極９と、第２の下部電極８とが同電位に、第２の上部電極１０と第１の下部電極７とが同電位に接続され、第１，第２の上部電極９，１０が、異なる電位に接続されるように構成されている、電気光学デバイス１。 （もっと読む）

【課題】 複数のレーザビームの強度を安定させることにより、良質な画像形成を行う。
【解決手段】 画像形成装置は、複数のレーザビームを出射するマルチビーム光源ユニット１８と、ポリゴンミラー２０と、感光体ドラム２４と、を備える画像形成装置である。マルチビーム光源ユニット１８は、連続発振するレーザビームを出射する半導体レーザ１２と、半導体レーザ１２から出射されたレーザビームを空間的に変調し、複数のレーザビームを出射する空間光変調器１６と、を備える。 （もっと読む）

電気光学結晶（１）の対向する一対の側面（１ａ、１ｂ）に、溝（３ａ、３ｂ）を各底面の距離が所定の距離以下になるべく各々の底面が互いに近接するように形成し、この溝（３ａ、３ｂ）をほぼ完全に埋めるように各溝内に一対の電極（５ａ、５ｂ）を形成する。
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遠赤外から深紫外までの幅広いスペクトル用の光変調器および可逆性フォトブリーチング可能な材料として、半導体ナノ粒子を、それら特有の物理的特性により、使用することができる。本特許では、ナノ粒子に制御回路を設けてプログラム可能なマスクを形成する。ナノ粒子の光学特徴が変化して、パターン付けされた光をもたらす。このようなパターン付けされた光を使用して、例えば、フォトリソグラフィのために半導体のウエハ上のフォトレジストを露光することができる。その他の用途には、光リソグラフィにおける可逆性コントラスト増強層(R-CEL)、リソグラフィマスクの検査および書き込み、ならびに光学記憶技術が含まれる。 （もっと読む）

光制御装置８の画素１０には、現フレームの輝度値を記憶する第一の記憶素子１８と、次のフレームの輝度値を記憶する第二の記憶素子１６と、第二の記憶素子１６に記憶された輝度値を第一の記憶素子１８に転送して画素１０の輝度値を変更するスイッチ素子である第一のトランジスタ１４と、がそれぞれ設けられる。制御部６０は、複数の画素１０が第一の記憶素子１８に保持された輝度値に応じて発光している間に、各画素１０の第二のトランジスタ１２を順次オンとして第二の記憶素子１６に次のフレームの輝度値の書き込みを行う。 （もっと読む）

実数の屈折率および／または虚数の屈折率をそれぞれ有する複数の層を有する光学干渉フィルターが提供される。前記実数の屈折率および前記虚数の屈折率の値は、外部電界の強度に依存する。各層の材料の屈折率および厚みならびにそれらの組み合わせは、入射光の少なくとも一つの偏光状態に対するスペクトルの少なくとも一領域において干渉の極値がもたらされるよう、選ばれている。少なくとも一つの層は、電気光学材料からなり、それは、異方性でありかつ少なくとも一つの芳香族有機材料から作られている。前記芳香族有機材料の分子または前記分子のフラグメントは、平板状構造を有する。前記電気光学材料の層の少なくとも一部は、光軸に沿った分子間間隔が３．４±０．３Åである結晶構造を有する。 （もっと読む）

本発明は、デバイス層の少なくとも一部に形成された第一光伝送媒体、デバイス層の少なくとも一部に形成された第二光伝送媒体、およびデバイス層の少なくとも一部に形成されたスロットを包含し、該スロットが少なくとも一つの湾曲した縁部を有し、該スロットが該第一および第二伝送媒体に隣接して配置される、導波管配置用の電気−光ギャップ−セルを提供する。
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