【課題】より性能の良い一次元の微細光学構造を内在し、必要に応じ特性を電気的に制御可能な液晶光学素子を提供する。
【解決手段】２枚の透明基板間に液晶を挟持する液晶光学素子において、この２枚の透明基板の少なくとも一方の透明基板に、液晶分子の配向軸方向と一次元の構造変化の方向とが、直交する形状に設定された微細光学構造を備える構成とすることで、配向処理による回折素子構造の損傷を少なくすることができる。このように構成することにより、最大回折効率を高くしたり、共振現象の少ない光学素子とすることができる。 （もっと読む）

【課題】等方性エッチングを用いた微細加工の際にエッチングの制御性を向上し、大型基板においても均一な加工を実現する微細構造形成方法を提供する。
【解決手段】所定の開口部を有するマスクが表面に設けられた被エッチング体にエッチング液を用いて上記開口部から被エッチング体を蝕刻し、被エッチング体表面に凹部を形成する微細構造形成方法であって、被エッチング体に含まれる物質とエッチング液との反応により不溶物を生成させ、被エッチング体の露出面に蓄積する不溶物によりエッチングを停止させる。 （もっと読む）

本発明は、特にエンボスフィルム、貼付けフィルムすなわちステッカーフィルム、および光学的セキュリティ素子に関する。フィルム（２）は、担体層（２１）および複製層（２３）を備えている。フィルムは、複製層上に施された液晶材料からなる層（２４）をも備えている。液晶材料からなる層（２４）に面する複製層の表面には、液晶材料の配向のための回折構造（２７）がエンボスされ、該回折構造は、エンボス構造の配向方向の異なる少なくとも二つの部分領域を有する。
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偏光に敏感な光配向層（２）と、前記の光配向層上に配置された液晶組成物（３）とを備えた偏光回折格子が提供される。ホログラムの偏光パターンに対応する配向パターンが光配向層内に記録され、液晶組成物は光配向層上で配向させられる。液晶組成物の配向の源は光配向層内に記録された偏光ホログラムであるので、この方法により基本的に欠陥の無いパターンを得ることができる。
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【課題】 電圧非印加時のリタデーション値を安定してゼロとし、低電圧で液晶層のリタデーション値を入射光波長λに対し略λ／２とする液晶素子を提供する。
【解決手段】 透明電極１３、１４が形成された一対の透明基板１１、１２と、液晶層１８とを備え、透明電極１３、１４間に印加する電圧の大きさに応じて直線偏光に対するリタデーション値を変化させる液晶素子１０において、液晶層１８の液晶は誘電異方性が負のネマティック液晶であり、液晶に電圧非印加時の液晶分子の配向方向は透明電極１３、１４表面に対して略垂直でリタデーション値は略ゼロ、液晶層１８に３Ｖ以上１０Ｖ以下の電圧印加時のリタデーション値は０．７８μｍとする。 （もっと読む）