【課題】検査計測精度の向上を図ることができるフォトマスク及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】実施形態に係るフォトマスクは、基板と、前記基板の主面に設けられ、前記基板の光の透過率よりも低い光の透過率を有する膜部と、前記膜部に設けられ、被転写体に転写されるパターンと、前記膜部に設けられ、前記被転写体への転写が抑制されるように透過光の強度が抑制された検出マークと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】観察可能な合わせずれ検査マークをデバイスパターンのデザインルールに従った微細なパターンから構成する。
【解決手段】デバイスパターンのデザインルールに従った第１の長さの幅Ｗ１を有する第１のパターンＰ１１を第１の間隔Ｄ１で第１の方向Ｘへ複数配置して構成される第１のパターングループＰＧ１１を第１のピッチＰＴ１で前記第１の方向Ｘへ複数配置して構成された第２のパターングループＰＧ２４を備え、前記第１のピッチＰＴは、合わせずれ検査装置の分解能に適合した距離であることを特徴とする合わせずれ検査マークが提供される。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク基板上にＲＦＩＤタグを設ける際に、ＲＦＩＤタグのフォトマスクへの貼り付けが必要な部分の容積を極小化し、フォトマスクを使用する工程で各種の装置との干渉を回避するとともに、ＲＦＩＤタグのフォトマスクへの貼り付けが必要な部分の面積を極小化し、接着剤等による悪影響を抑えることを可能にする手段を提供すること。
【解決手段】フォトマスク基板上の導電性材料を含む遮光パターンの一部をＲＦＩＤタグ用のアンテナとし、該アンテナにＲＦＩＤタグ用のＩＣチップを電気的に接続する。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置における透過率等の光学特性に寄与する部分の最適設計を短期間で特定する。
【解決手段】光学特性測定工程（ステップＳ３２０）において、検査対象部９０２ａ１及び９０２ａ２の夫々を駆動させ、当該検査対象部９０２ａ１及び９０２ａ２に画像を表示させることによって、検査対象部９０２ａ１及び９０２ａ２の夫々の輝度（即ち、光の透過率）、コントラスト、或いはフリッカの発生状態等の光学特性を測定する。情報抽出工程（ステップＳ３３０）において、検査対象部９０２ａ１及び９０２ａ２の構成の相違、言い換えれば、画素部７２の光学特性に寄与する透明電極９ａ１及び９ａ２の夫々の間隔に起因して測定された輝度、コントラスト或いはフリッカの発生状況に基づいて、高品位で画像を表示できる画素部７２の設計を特定する。 （もっと読む）

【課題】 ＣＡＤシステムとフォトツール作成装置の組み合わせにおいて、フォトツール作成における補正値の指示、フォトツールへの書き込み、及び実際のフォトツールへの補正の適用の３つの作業を一連の作業手順とプログラムで実現する。
【解決手段】 （１Ａ）ＡＤデータを用意する。（１Ｂ）データの適当な位置、補正値等の内容を記述する場所に、各補正内容に対応して、予め決めた属性を持つデータ（制御データ）を配置する。ここで使用する属性は、以降の処理で、パターン等を構成する実際データと区別できるものとする。（１Ｃ）データ出力プログラムを起動する。プログラムは制御データを検出し、それに応じた補正内容をデータに書き込むと同時に、実際の補正を実行し、描画ファイルを作成する。（１Ｄ）（１Ｅ）こうして作成された描画データを、フォトツール作成装置に読み込んで描画し、フォトツールとする。 （もっと読む）