光学層は多数のサブ照射によってレジスト層（５）内に形成され、各サブ照射において光弁（２１−２５）のアレイ及び対応する光収束素子のアレイ（４０）を使用してサブ像に応じてレジスト層内にスポットのパターンを形成する。サブ照射間において、レジスト層は、アレイ（２１−２５、４０）に対して動かされる。レジスト層内の光学像のスケールが測定され、この測定は、書込みされる必要のある像のスケールと比較される。差がある場合には、光収束素子（４３）間の間隔が物理的に偏光されて基板スケールが調整される。

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光学像は複数の副照射により放射線感応層（５）において形成され、それらの副照射において、光バルブ（２１乃至２５）のアレイ及び収束要素（４３）の対応するアレイ（４０）は副画像パターンに従ってレジスト層（５）においてスポットのパターンを形成するために用いられる。副照射の間で、レジスト層（５）はアレイ（２１乃至２５、４０）に対して移動される。レンズアレイ（４０）は走査領域に対して傾斜されることが可能であり、それ故、各々のレジスト層は複数のスポットにより走査される。更に、走査方向に対して垂直な方向において一部のスポットの重なり合いが又、生じる。このスポットの冗長性を、装置特徴のエッジの位置を変える、即ち、それを“微調整する”ように、冗長スポットの１つ又はそれ以上の強度を選択的に減少させる又はそれらをオフに切り換えることにより利用することができる。

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本発明は、書き込みシステム及び加工物の位置調整に関する。特に本発明は、ＳＬＭを用いて、第１層のパターンを有する加工物上に第２層のパターンを書き込むための位置調整に関する。本発明は、マスク又はレチクルの作製、及びマスク又はレチクルを用いたデバイス層の作製にも及ぶ。本発明の特定の態様を特許請求の範囲、明細書及び図面に記載する。
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本発明は、限界寸法変化を低減し、レチクル、マスク又はウェハなどの基板にパターン形成し、ＣＤ均一性を改善する方法に関する。具体的には、本発明は、マルチ・パス描画方式のパスにおいて加える線量を、基板に施されるレジスト又は放射感応層の測定可能な特性値に調整することに関する。具体的な描画処理を説明する。本発明の態様は、特許請求の範囲、明細書及び図面に記載する。
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本発明は、複数小ビームリソグラフィシステムにおける小ビームの大きさを変調するための変調器に関する。この変調器は、小ビームの方向に影響を与えるための少なくとも１つの手段と、変調された光ビームからの光を受けこの光を信号へと変換するための受光素子と、この受光素子から受けた信号を、所定の離散値の組から選択された離散値を有する離散的な信号へと変換し、この離散的な信号を影響を与えるための手段に提供するために、受光素子と少なくとも１つの影響を与えるための手段とに結合している離散化手段とを有している。
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インタグリオ凹版印刷のための版板を製作する方法であって、黄銅合金から成りかつ／又は黄銅合金から成る外層を備えた基体にレーザで凹部及び／又は線を付与する方法。
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【課題】 本発明は、振動に起因する描画の誤差による基材の良品不良製品を識別することの可能な描画システム、情報処理装置、電子ビーム描画装置、基材の検査方法、その方法を実行するためのプログラム、プログラムを記録した記録媒体、描画方法、及び基材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の描画システムは、ビームにより基材に対して描画を行う描画装置（３）と、描画装置による振動ないしは外部からの振動を計測する振動計測装置（５００）と、振動計測装置にて計測された振動と、前記基材に対するドーズ量に応じた前記振動による描画位置ずれの影響度に基づいて、前記基材の描画の品質を判定するように制御する品質判定制御装置（６００）と、含む。 （もっと読む）

【課題】 マイクロドリルの捻れ溝加工を高精度で行い，かつマイクロドリルを高歩留まりで大量生産する。
【解決手段】 所定部材を加工して，マイクロドリルのドリルボディ部を形成する工程と，少なくともドリルボディ部を含む所定領域を露光液でコーティングする露光液コーティング工程と，ドリルボディ部の露光液コーティング面にレーザビームを照射しながらマイクロドリルを直進回転移動させて，捻れ溝形成領域の露光液を除去する捻れ溝形成領域露光工程と，少なくともドリルボディ部をエッチング液に浸積し，露光液が除去された領域のドリルボディ部材をエッチング除去して，捻れ溝を形成する捻れ溝形成工程と，露光液を超音波洗浄により洗浄除去する露光液洗浄工程と，を含む。 （もっと読む）

【課題】 大きな動力を必要とすることなく暗箱内の未感光の版材を露光装置へ供給することができると共に、露光装置への版材の供給時に重たいを暗箱を持ち上げたりする必要もない製版装置に於ける給版装置を提供する。
【解決手段】 未感光の版材を露光装置Ｂへ連続的に供給する製版装置に於ける給版装置Ａに於いて、前記給版装置Ａは、開閉可能な出し入れ口を形成した遮光カバー１で覆われたフレーム２と、遮光カバー１で囲まれた空間内に並列状に配置され、未感光の版材Ｐを積層状に収納する開閉可能な蓋３ｂ付きの複数の暗箱３と、フレーム２に設けられ、複数の暗箱３の中から適宜の暗箱３を開放し得ると共に、開放した暗箱３内の版材Ｐを取り出して露光装置Ｂへ送り込む版材搬送装置４と、フレーム２に設けられ、開放した暗箱３内の版材Ｐの感光面を保護している合紙Ｐ′を暗箱３外へ取り出す合紙取出し装置５とを具備している。 （もっと読む）

【課題】 有効露光領域が大型化して描画誤差の傾向の異なる部分が存在しても、パターンの像を高精度に基板に投影露光する。
【解決手段】 マスクＭと基板とを投影光学系に対して相対的に同期移動させて、基板にマスクＭのパターンを投影露光する走査露光方法において、マスクＭには、同期移動方向に沿う第１の方向にパターンを挟むようにマーク４３ａ〜４３ｆ、４４ａ〜４４ｆが複数形成されており、投影光学系を介して複数のマーク４３ａ〜４３ｆ、４４ａ〜４４ｆの投影された像を計測して、その結果に基づいて投影光学系の結像特性を求め、所定の結像特性になるように投影光学系を調整する。 （もっと読む）

【課題】 近赤外レーザー等を光源とする露光に適し、画像部の残膜率の高いポジ型感光性組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）光熱変換物質及び（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂を含有し、熱分解性物質を含有しないポジ型感光性樹脂組成物に於いて、更に（Ｃ）界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 （もっと読む）