【課題】ＰＡＧ（光酸発生物質）二重層を用い、残留物が無くＬＥＲも僅かな犠牲ポリマー層、及び犠牲ポリマー層の分解方法と、これを使用して改良されたエアキャビティー、又はエアギャップを作製するための方法を提供する。
【解決手段】ＰＡＧ二重層はその中に光酸発生物質を組込み、上部のＰＡＧ濃度は構造物の低部より高い。ＰＡＧが非存在の犠牲層１５が基板１０上に形成される。犠牲層が乾燥された後、ＰＡＧ単層２０が形成され、層１５と層２０はＰＡＧ二重層２５を形成する。次いで二重層２５の像様暴露（光線照射３５）遮蔽物３０を使用して行われる。暴露部分は熱分解法によって除去されて、基板上に残った非暴露部分４０を残す。次いで保護被覆層５０が構造体上に配置され、部分４５の分解及び保護被覆５０を通る分解生成物の浸透のために適当な温度に加熱した後、エアギャップ５５が形成される。 （もっと読む）

【課題】自由度を損なうことなく高解像度を実現する微細構造の作製方法を提供すること。
【解決手段】まず、図１（ｂ）のように、ネガ型レジスト１０２を基板１０１に塗布する。次に、図１（ｃ）のように、ネガ型レジスト１０２に、電子ビーム（エネルギービームに対応）１０３を第１のパターンで照射する（第１の露光ステップ）。ついで、図１（ｄ）のように、ネガ型レジスト１０２を現像して、ブロック状（第１の構造に対応）のレジスト１０２Ａを形成する（第１の現像ステップ）。そして、図１（ｅ）のように、ブロック状のレジスト１０２Ａに、電子ビーム１０３を第１のパターンとは異なる第２のパターンで照射する（第２の露光ステップ）。最後に、図１（ｆ）のように、ブロック状のレジスト１０２Ａを現像して、３本の直交ナノワイヤ状（第２の構造に対応）のレジスト１０２Ｂを形成する（第２の現像ステップ）。 （もっと読む）

【課題】レジスト上に帯電防止膜が形成されている場合に、精度良くパターンを形成できる荷電粒子ビーム露光装置及び荷電粒子ビーム露光方法を提供すること。
【解決手段】荷電粒子ビーム露光装置は、帯電防止膜が被着されたレジスト膜に荷電粒子ビームを照射して露光を行う露光部１００と露光後のウエハを処理する露光後ウエハ処理部１６０とを有する。前記露光後ウエハ処理部１６０は、露光後に前記帯電防止膜を剥離する帯電防止膜除去手段１６２と、前記ウエハのベーク処理を行うベーク手段１６３と、露光後のウエハを前記帯電防止膜除去手段１６２に搬送し、前記帯電防止膜を除去させた後に前記ベーク手段１６３に搬送する露光後ウエハ処理制御手段２０９とを有する。 （もっと読む）

【課題】 その第一の課題は、ドライプロセスでの平版印刷版の指紋汚れ、解像度の改善をすることにある。第二の課題は、新規なドライのフィニッシャー処理方法（具体的にはガム処理）を採用することにより、画像形成後の傷による置き版適性を改善することにある。
【解決手段】 少なくとも画像露光を行う工程及び下記の液体現像処理を伴わずに親水化処理を行う工程を、感光性平版印刷版を順次搬送しながら行う平版印刷版の処理装置において、前記親水化処理がコーティング処理により行われることを特徴とする平版印刷版の処理装置。
ここで、液体現像を伴わずに親水化処理を行う工程とは、ａ）溶融熱転写方式、ｂ）昇華熱転写方式、ｃ）アブレーション転写方式、ｄ）穿孔方式、及びｅ）光変性方式の群から選ばれる少なくとも１つの方式を有する親水化処理を行う工程を言う。 （もっと読む）