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Fターム[2H111AA34]の内容

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Fターム[2H111AA34]に分類される特許

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【課題】キレート可能な昇華性染料を熱転写受像シートの受容層に転写形成した熱転写印画物の色相耐久性に優れ、受容層上に密着性よく保護層を形成でき、かつ生産性に優れた熱転写印画物の製造方法を提供する。
【解決手段】支持基板、及び支持基板上に形成されたバインダー樹脂及びキレート可能な昇華性染料を含む熱転写シートの染料層と、基材、及び基材上に形成されたキレート可能な金属イオンを含む熱転写受像シートの受容層とを対向、加熱し、昇華性染料を受容層に転写させる熱転写工程と、昇華性染料が転写された受容層、及び支持基板と、支持基板上に形成された熱変換物質を含む保護層熱転写シートの保護層を対向、加熱することにより、受容層上に保護層を形成する保護層形成工程と、受容層上に形成された保護層に電磁波の照射を行う電磁波照射工程とを有することを特徴とする熱転写印画物の製造方法により上記課題を解決する。 (もっと読む)


基材フィルム、熱転写ドナー要素、並びにそれらを作製及び使用する方法を提供する。いくつかの実施形態では、そのような基材フィルム及びドナー要素は、少なくとも2つのダイアドを含み、各ダイアドは、吸収性の第1層と本質的に非吸収性の第2層とを含む。また、提供されるのは、本質的に非吸収性の基材、吸収性の第1層及び本質的に非吸収性の第2層を含むドナー要素を作製する方法であり、本質的に非吸収性の基材の組成は、本質的に非吸収性の第2層の組成と本質的に同じである。
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