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Fターム[3C047KK05]の内容

研削機械のドレッシング及び付属装置 (4,541) | ベルト研削機用のもの (4) | ベルト洗浄液を噴射するもの (2)

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洗浄液の回収

Fターム[3C047KK05]に分類される特許

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【課題】マグネシウム合金板の表面を平滑に湿式研磨した場合に、その表面に縞模様が目立たないようにすることができるマグネシウム合金板の研磨方法およびその研磨方法によって作製されたマグネシウム合金板を提供する。
【解決手段】マグネシウム合金板の研磨方法は、搬送されるマグネシウム合金板Pの表面を研磨液13の使用下で研磨ベルト1A(研磨材)により研磨する研磨工程を具える。そして、研磨液13は、研磨ベルト1Aの表面に複数の噴射領域が研磨ベルト1Aの幅方向に隙間なく形成されるように噴射される。そうすることで、研磨ベルト1Aの幅方向に対する研磨液13の噴射状態のばらつきを緩和する。そして、研磨ベルト1Aの表面における局所的な目詰まりの発生を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】半導体ウエハのノッチとベベルの研磨を一つの装置内で効率よく行うことのできる半導体ウエハ周縁研磨装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明の装置10は、半導体ウエハWを保持するためのウエハステージ23を有するウエハステージユニット20、ウエハステージユニット20を、ウエハステージ23の表面と平行な方向に移動させるためのステージ移動手段30、32、ウエハステージ23に保持した半導体ウエハWのノッチを研磨するノッチ研磨部40、及びウエハステージ23に保持した半導体ウエハWのベベルを研磨するベベル研磨部50から構成される。ハウジング11内に搬入された半導体ウエハWをウエハステージ23に載置し、またウエハステージ23に保持した半導体ウエハWをウエハステージ23から取り上げるためのウエハチャック手段80からさらに構成される。 (もっと読む)


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