Fターム[3K084DA00]の内容
放電加熱 (400) | 電極周辺装置 (25)
Fターム[3K084DA00]の下位に属するFターム
電極支持装置(例;支腕、支柱) (11)
電極の炉壁貫通部の構造、電極エコノマイザ (1)
電極状態の検出手段 (3)
電極継ぎ足しのための装置、手段 (2)
電力供給装置 (6)
Fターム[3K084DA00]に分類される特許
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真空熱処理装置および半導体デバイスの製造方法
【課題】真空熱処理装置のシーリング用Oリングの劣化を防止する。
【解決手段】加熱容器(3)を排気ポンプへ結合し且つ真空処理チャンバ内に収容する接合チャンバの開口周囲フランジ(13)と加熱容器(3)の開口周囲フランジ(15)との接合面はOリング(21)でシーリングされる。接合チャンバの開口フランジ(13)の開口縁にひさし状の突起部(24)を設け、約1μ程の接合面の隙間から輻射熱が入りOリングを加熱しないような構成によって、Oリングの劣化を防止している。
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電子衝撃加熱装置及びこれを用いた半導体デバイスの製造方法
【課題】大きなサイズのウエハであっても均一なアニール処理が可能な、加熱プレート内の温度均一性が高い電子衝撃加熱装置を提供する。
【解決手段】天板2aを有するヒーター容器2内に、螺旋状のフィラメント4と、該フィラメント4の螺旋で囲まれた領域内に反射板3を備え、該反射板3が、フィラメント4の天板2aに最も近い位置Dに上面を有し、直径がフィラメント4の螺旋の直径Rの10%以上の円板3aと、該3円板3aの外径と同じ内径を有し、外径がフィラメント4の螺旋の直径よりも大きいリング板3bと、円板3aの外周とリング板3bの内周とを連結する円筒板3bとから構成され、フィラメント4から発生した熱電子を、天板2aの外周部に優先的に衝突させる。
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