プロジェクター等の光学装置及び光源の小型高輝度化に伴い、実用的なリフレクターの耐熱性を確保するために、リフレクターの耐熱性無機基材の凹内面に耐熱性に優れる誘電体交互積層反射膜を被覆する。反射膜被覆手段に拘わらず、耐熱性無機基材の凹内面に被覆された上記反射膜の引っ掻き耐力が０．０２ｋｇｆ以上であるとき、従来にない５００℃以上の高耐熱性に優れるリフレクターが得られ、光学装置の小型高輝度化への対応が可能となる。 （もっと読む）