Fターム[4C037EA20]の内容
フラン系化合物 (2,851) | 2位二重結合O置換単環テトラヒドロフラン (128) | その他 (2)
Fターム[4C037EA20]に分類される特許
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カルボニル化合物の製造方法
【課題】 原料アルコールを脱水素反応してカルボニル化合物を製造するにあたり、より詳細には、1,4−ブタンジオールを脱水素反応させガンマブチロラクトンを製造するにあたり、高沸点化合物の生成を抑制し、高い収率で、効率よく、カルボニル化合物又は、ガンマブチロラクトンの製造を行う。
【解決手段】触媒の存在下、原料アルコールの脱水素反応によりカルボニル化合物を製造する方法において、反応開始時にオリゴマーが反応系内に存在することを特徴とするカルボニル化合物の製造方法。
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α−ジフルオロハロメチルカルボニル化合物の製造法
【課題】 α−ジフルオロヨードメチルカルボニル化合物等のα−ジフルオロハロメチルカルボニル化合物を簡易に且つ効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】 本発明のα−ジフルオロハロメチルカルボニル化合物の製造法は、カルボニル化合物に、アルカリ金属化合物からなる塩基の存在下、CF3X(式中、Xはハロゲン原子を示す)を反応させて、カルボニル基のα位にCF2X基(式中、Xは前記に同じ)を導入することを特徴とする。
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