【課題】フォトリソグラフィを利用した微細加工を行うために使用される新規なフォトレジスト用化合物、それを用いたフォトレジスト液、およびその液を使用するエッチング方法の提供。
【解決手段】一般式(I)で表される化合物またはその塩であるフォトレジスト用化合物。


［Ｒ¹およびＲ²はＨまたは置換基、L¹〜L³は置換基を有していてもよいメチン基を表し、Ｖ¹およびＶ²は少なくとも一方はハメットの置換基定数σｐが０．２〜０．９の範囲の置換基、またはＶ¹およびＶ²が窒素を含有するへテロ環を形成してもよく、ｎは0または１を表す。］ （もっと読む）

【課題】特定のラクトン化合物を提供すること。
【解決手段】本発明の対象は、薬剤または化粧品組成物において、あるいは食製品において、抗酸化剤として使用可能な特定のラクトン化合物であり、該化合物はその上に二つのラクトン単位がグラフトされたナフタレン環を含有する。 （もっと読む）