【課題】レーザ光の集光位置を安定化する。
【解決手段】このアライメントシステムは、ガイドレーザ光を出力するガイドレーザ装置と、レーザ光及びガイドレーザ光の少なくとも一方の進行方向を調節する調節機構と、レーザ光及びガイドレーザ光の進行方向を実質的に一致させる光路結合部と、光路結合部の下流側に配置され、レーザ光及びガイドレーザ光を検出する第１の光検出部と、第１の光検出部による検出結果に基づいて、調節機構を制御する第１の制御部と、光路結合部の下流側に配置され、レーザ光及びガイドレーザ光の進行方向を調節するビームステアリング機構と、ビームステアリング機構の下流側に配置され、少なくともガイドレーザ光を検出する第２の光検出部と、第２の光検出部による検出結果に基づいて、ビームステアリング機構を制御する第２の制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】大規模な構成の高電圧スイッチ回路が不要で、消費電力が低減され、被曝低減を十分になしうる高電圧スイッチ回路およびこれを用いたＸ線パルス発生装置を提供する。
【解決手段】高電圧スイッチ回路６は、交流信号が１次側に入力されるパルストランスＰＴＲ１、該トランスの２次側に接続されたゲートドライブ回路ＧＤ１、および該ドライブ回路によりオンオフ制御される半導体スイッチＳｗ１からなる第１の半導体スイッチ回路Ｓ１と、該半導体スイッチ回路に順次直列接続され，該半導体スイッチ回路と同構成の第２〜第ｎの半導体スイッチ回路Ｓｎとを備える。第１〜第（ｎ−１）の半導体スイッチ回路のパルストランスの２次側はそれぞれ第２〜第ｎの半導体スイッチ回路のパルストランスの１次側に接続され、交流信号に基づいて、第１〜第ｎの各半導体スイッチ回路における半導体スイッチがゲートドライブ回路によって同期的にオンオフ制御される。 （もっと読む）

【課題】 Ｘ線管の出力を迅速に変更して透視または連続撮影の追従性を向上させることができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 フィラメント電流変化量演算部６１により演算した現在のパルス出力のフィラメント電流と次のパルス出力のフィラメント電流との単位時間当たりの変化量の絶対値が設定値以上の場合に、現在のパルス出力のＸ線条件と次のパルス出力のＸ線条件とに基づいてフィラメント電流演算部６２により演算したパルス間フラッシュ制御時のフィラメント電流となるように、パルス出力間においてフィラメント電流を一時的に大きくし、あるいは、一時的に小さくするパルス間フラッシュ制御を実行する。 （もっと読む）

【課題】 予備加熱を停止してこれをフラッシュ加熱により補うようにした場合に、フィラメントの余熱の影響を排除して、適切な管電流でＸ線撮影を実行することが可能な移動型Ｘ線撮影装置およびＸ線撮影方法を提供する。
【解決手段】 フィラメント電流供給回路５２は、制御部６により制御され、Ｘ線管３によるＸ線の照射時以外にはフィラメント電流の供給を停止しておき、Ｘ線を照射する直前にＸ線照射時より大きいフィラメント電流を供給してフラッシュ加熱を行った後、Ｘ線照射時にフィラメントの本加熱を行うとともに、前回のＸ線照射によるフィラメントの余熱に基づいて、フラッシュ加熱時のフィラメント電流の電流値、あるいは、フラッシュ加熱時のフィラメント電流の供給時間を補正する。 （もっと読む）

三つの回路を備える放電モジュールであり、第一の回路はX線の制御回路と測定回路（1）、第二の回路は第一の回路に対して独立した、直列のスイッチ間に電圧を配分する回路（2）、第三の回路は連続トリガ回路またはスイッチのスレーブ回路およびスイッチによる他の主放電回路から成るチャージの短絡回路（3）である；この構成によれば、予測不能な要素による悪影響を受けないこと、短絡電流がスイッチのゲート電流に制限されないこと、スイッチの残留電圧が減少されることにより、より良好な放射線管理を達成することができる。 （もっと読む）

【課題】目標値となるＸ線管電流までの立ち上がり時間を短縮し、Ｘ線撮影を速やかに行うことができるＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線管の陽極に管電圧を印加する高電圧回路と、Ｘ線管のフィラメントに最大定格付近に設定したフィラメント電流を流してフィラメントを予備加熱する予備加熱制御回路と、予備加熱を開始して所定時間経過後に作動し、Ｘ線管の管電圧を目標電圧値に制御する管電圧制御回路と、Ｘ線管の管電圧の増加によりＸ線管の管電流が目標電流値に到達したときに、予備加熱制御回路に代わってフィラメント電流を制御し、管電流を目標電流値に制御する管電流制御回路と、Ｘ線管の管電圧及び管電流が目標値に到達して所定時間経過後に管電圧及び管電流の供給を停止する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】現在のフィラメント加熱状態に応じたフラッシュ量を出力するＸ線高電圧装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線管球のフィラメント加熱手段と、上記フィラメント加熱電流検出手段と、フィラメント加熱電流を制御する制御手段とからなり、撮影又は透視準備操作が行われる迄は所定条件でフィラメントが予備加熱され、上記準備操作が行われることにより一時的に上記予備加熱時よりもフィラメントに大電流を流すフラッシュが開始され、フラッシュ終了後、撮影又は透視に必要な条件でフィラメントが本加熱されるＸ線高電圧装置であって、上記準備操作が行われる時点から遡った一定期間の加熱量、並びに予め定めた標準の予備加熱量及びフラッシュ量を用いて上記フラッシュ時におけるフラッシュ量を算出する算出手段を備え、その算出結果に応じて、上記制御手段により上記フラッシュ時におけるフィラメント加熱電流を制御するものとする。
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【課題】 各構成要素全体として省スペース化が可能な高電圧発生装置を提供する。
【解決手段】 高電圧タンク8内の上下一方の側に高電圧変圧器2と高電圧整流回路4a，4bと高電圧コネクタ9a，9bを配置し、またその反対側には高電圧スイッチ回路6a，6bと高電圧放電回路5a，5bを配置する。高電圧変圧器２を巻線の中心軸を垂直方向に向けて下段に、高電圧整流回路4a，4bを中段に、高電圧コネクタ9a，9bを上段に配置する。 （もっと読む）

【課題】 曝射開始時の曝射量の不安定さを軽減することにより、被曝量をさらに軽減した技術を提供する。
【解決手段】 Ｘ線管に高電圧を印加するための高電圧電源とＸ線管のフィラメント電流を制御信号にしたがって制御するフィラメント電源部とを含むＸ線発生部とを有し、予め、Ｘ線管のフィラメント及びフィラメント電源部を含むフィラメント系の応答時間τを記憶しておき、Ｘ線発生部が被検体の周囲を回転周期Ｔｋ（位相：２π／Ｔｋ×ｔ）で回転するのに対して、Ｘ線制御部は、フィラメント電源部に、高電圧を印加する前に周期Ｔｘ（＝Ｔｋ／２）で前記応答時間τだけ早く変化する（位相：２π／Ｔｘ×（ｔ＋τ））フィラメント電流を印加させ、高電圧を印加後に周期Ｔｘで変化する管電流（位相：２π／Ｔｘ×ｔ）を流すよう制御することによって、Ｘ線の強度を変えて曝射する。 （もっと読む）

【課題】フィラメントの加熱不足による画質低下とフィラメントの加熱制御の複雑化を解消して、非加熱状態のフィラメントを高速で最適温度まで加熱することができるＸ線管のフィラメント加熱装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線管２のフィラメント(２Ｓ，２Ｌ)の温度を検出するフィラメント温度検出手段と、前記フィラメントの温度を設定する温度設定手段と、前記設定した目標の設定温度と前記フィラメント温度検出手段で検出した温度とが一致するように制御するための制御信号を生成するフィラメント加熱制御信号生成回路２１とを備え、前記制御信号に基づいて前記Ｘ線管のフィラメントに供給する加熱電力を制御する。 （もっと読む）