【課題】 硬度が大きい物質であっても、装置の磨耗等による汚染を可及的に抑制しつつ、ナノ粒子化すること。
【解決手段】 超微細懸濁液の製造方法において、２０℃で固体として存在する物質が溶媒に溶解され、この溶解液から極めて急速に溶媒が実質的に除去され、その際得られる粉末が分散媒に分散され、該粉末の粒子は（レーザ回折法により求めた）１〜５０μｍの範囲の平均粒子径を有し、そのようにして得られた懸濁液に中程度から高程度の力を印加することにより更に処理を行い、その固体粒子が（光子相関分光法ＰＣＳにより求めた）３μｍ未満、好ましくは１μｍ（１０００ｎｍ）未満、とりわけ４００ｎｍ未満、特に２００ｎｍ未満の平均粒子径を有する懸濁液にすることを特徴とする。 （もっと読む）

研磨粒子（３０）も含有する水性ポリマー分散液から、ＣＭＰ平坦化パッド中に使用するのに適している固定研磨材料（１９）の製造方法であって、ポリマー分散液を起泡する工程、泡を基板、金型又は担体に適用する工程並びに泡を硬化させて、約５〜８５重量％の研磨粒子を含有する連続気泡構造及び約３５０ｋｇ／ｍ³〜１２００ｋｇ／ｍ³の乾燥密度を有する固定研磨材料（１９）を形成する工程を含んでなる方法が提供される。
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【課題】カチオン性乳化剤としてのアルキルグアニジンの使用を提供する。
【解決手段】カチオン性乳化剤と、任意に共乳化剤と、任意に慣例の助剤および添加剤とを含んでなるエマルジョンであって、使用されるカチオン性乳化剤が、一般式（Ｉ）


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２は、互いに独立して、Ｈ、炭化水素基、ヒドロキシアルキル基等であって、１個〜６０個の炭素原子の炭素原子を有するものの群から選択される少なくとも１つの基であるが、ただしＲ^１＋Ｒ^２からの炭素原子の合計が少なくとも１２であり、そしてＸ⁻は、塩形成アニオン）の少なくとも１つの化合物であるエマルジョン。 （もっと読む）