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Fターム[4E001LC02]の内容

Fターム[4E001LC02]に分類される特許

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【課題】フラックスに覆われているためアーク発生地点を目視できない回転サブマージアーク溶接においても、アークセンサによる的確な倣い制御を可能とする。
【解決手段】粒状フラックス20下で溶接ワイヤ22と母材間、あるいは溶接ワイヤ間にアークを発生させ、これにより生じる高熱を利用してサブマージアーク溶接を行う際に、アークの回転円における溶接進行方向の前方中心点Cfとアーク電圧波形又はアーク電流波形の間に規則性がある所定回転条件範囲で、Cfを中心とする左右対称な所定積分領域のアーク電圧値又はアーク電流値の積分値SLとSRの差が一定値となるように狙い位置を制御する。 (もっと読む)


【課題】互いに交差する回転モータの軸芯と電極の軸芯が作る面の垂直方向の変動を抑制して、電極の回転中心位置の変動を抑制する。
【解決手段】回転モータ6の軸芯と電極1の軸芯を含む平面が球面軸受2を中心に旋回しないように、連結板3、電極部又は自動調芯軸受ブロック4を、押え具30、40で押さえて、電極先端の回転軌跡の中心位置を、溶接トーチ本体20に対して、定位置に保持する。 (もっと読む)


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