【課題】簡易な構成で、加工対象物を広範囲でかつ適切に加工することが可能なビーム加工装置を提供すること。
【解決手段】ビーム加工装置は、ワークの加工を行うためのビームを出射するビーム出射源３と、ビーム出射源３から出射されたビームが通過するビーム通過路８を有する真空チャンバー４と、ビーム通過路８に連通しビーム通過路８を通過したビームが通過する通過空間２０およびワークに向けてビームを出射する出射孔１７ａを有する局所真空チャンバー９と、ワークに照射されるビームの焦点を調整するために出射孔１７ａの下方に配置される被照射部材３５を有する焦点調整手段７とを備えている。このビーム加工装置１は、ビームを用いて真空チャンバー４および局所真空チャンバー９の外部の大気圧中に少なくとも一部が配置されるワークの加工を行う。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、加工対象物を広範囲で加工することが可能なビーム加工装置を提供すること。
【解決手段】ビーム加工装置は、ビームが通過する第１空間１６および第１空間１６の周囲に壁部１４ａを介して配置される第２空間１７が形成される局所真空チャンバー９と、第１空間１６、第２空間１７を真空状態とするための吸気手段とを備えている。ワークに対向する対向部１５は、ワークに向けてビームを出射するための出射孔２２ａを有する第１対向部１８と、出射孔２２ａの外周側に配置される開口部３２を有する第２対向部１９と、第２対向部１９の変形を防止するための変形防止部２０、１９ｄとを備えている。第１対向部１８と第２対向部１９との間には、開口部３２を介して局所真空チャンバー９の外部に連通しかつ第２空間１７の一部となる対向部間空間１７ａが形成されている。 （もっと読む）

【課題】高強度の電子線を広範囲に走査させて、ワーク表面の広い領域に均一に電子線を照射することができる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】電子線照射装置１を、複数の真空チャンバー３と、真空チャンバー３のうちの最終チャンバー３ｃ内に電子線ＥＢを射出する電子線発生装置２と、最終チャンバー３ｃに設けられて最終チャンバー３ｃから外部への電子線ＥＢの通過を許容する電子線射出口９と、電子線ＥＢを最終チャンバー３ｃ内でビーム軸線に直交する一方向に走査させる走査磁石１６とを有する構成とする。電子線射出口９を、走査磁石１６による電子線ＥＢの走査方向に沿って設けられたスリットによって構成する。走査磁石１６の鉄心１７を、磁極をなす一対の端部が対向させられたＣ字形状とし、各端部を、最終チャンバー３ａ内に挿入して、互いの間に前記電子線の軌道を挟み込むように近接配置する。 （もっと読む）

【課題】真空雰囲気で発生した粒子線を真空雰囲気をシールしたまま大気中に取り出す。
【解決手段】真空雰囲気３に置かれた粒子線発生装置１と、該真空雰囲気を大気１５と分離する分離手段１３と、該分離手段に設けられた粒子線を通過せしめる固定穴１７と、前記分離手段の固定穴と整合し得る移動穴２１または周囲に複数の切り欠きを有する回転板１9と、該固定穴と移動穴または切り欠きとを所定の速度にて整合させるよう該回転板を高速回転せしめる回転駆動装置２３と、前記回転板で発生する熱を除去するための冷却手段とからなる粒子線取り出し装置。 （もっと読む）

【課題】
製造コストの上昇を抑制しつつ溶接室内の空気の排出作業を迅速的且つ効率的に行わせ、サイクルタイムを削減することができる電子ビーム溶接装置を提供する。
【解決手段】
ワークＷを密閉状態にて収容しつつ当該ワークＷの所定部位に対して電子ビーム溶接が可能な溶接室１と、該溶接室１内の空気を外部に排出可能な真空ポンプ２と、予め所定気圧まで低下されるとともに溶接室１と連通されることにより溶接室１との間の圧力差が等しくなる真空中和を生じさせて当該溶接室１内の空気を導入し得る予備室４とを具備した電子ビーム溶接装置において、真空ポンプ３により所定時間溶接室１内の空気を外部に排出して目標圧近傍まで気圧を低下させた後、予備室４と溶接室１とを連通させて真空中和させるものである。 （もっと読む）