説明

Fターム[4E084FA15]の内容

溶接用非金属材料(フラックス) (4,852) | 溶接条件 (111) | その他 (1)

Fターム[4E084FA15]に分類される特許

1 - 1 / 1


【課題】高溶着量を得ながら、大幅なスパッタ低減を実現することが可能な高電流密度ガスシールドアーク溶接方法を提供することにある。
【解決手段】フラックス入りワイヤを電極ワイヤとしてパルスアーク溶接を行なう高電流密度ガスシールドアーク溶接方法であって、パルスアーク溶接のパルス電流において、パルスピーク期間Tpのパルスピーク電流密度を400〜950A/mm、パルスベース期間Tbのパルスベース電流密度を200A/mm以上、かつ、そのときのパルスピーク電流密度との差を200〜400A/mm、平均電流密度を350〜750A/mmとして溶接することを特徴とする。 (もっと読む)


1 - 1 / 1