本発明による方法は、ほぼ同じ移動度を有する２種のイオンにおけるガラス基板のイオンとの同時のイオン交換に基づき、前記２種のイオンのうちの少なくとも１種はエナメルの形態で使用される。第１の態様によれば、本方法は、ａ）第１のイオンを含有するガラス基板の表面に、Ａｇ、Ｔｌ、ＢａもしくはＣｕイオンまたはそれらの前駆体から選択される第２イオンを含有するエナメル組成物を、パターンまたはパターンのアレイの形態で堆積させること、ｂ）エナメルを焼成するのに十分な温度に基板を至らせること、ｃ）第２イオンの移動度とほぼ同じ移動度を有する第３イオンを含む溶融塩の中に基板を浸漬させること、ｄ）エナメルから生じる第２イオンおよび溶融塩から生じる第３イオンが基板の中の第１イオンと同時に置き換わるように、浸漬された基板を通る電界を印加すること、ｅ）溶融塩から基板を引き出すこと、およびｆ）エナメルを除去することからなるステップを含む。 （もっと読む）

大部分層、陽イオン濃度が高められた層、および陽イオン濃度が低められた層を備えたガラス基板またはガラスセラミック基板を提供する方法および装置であって、上記陽イオン濃度が高められた層は、上記陽イオン濃度が低められた層からの、移動の結果としての実質的に全ての改質剤陽イオンを含み、上記基板は、この基板上に如何なるさらなる材料をも備えていない。
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【課題】ガラス基材の任意の位置に、任意の形状やパターンを、高い精度で設けることができる、ガラス基材の表面改質方法および位置選択的に異なる屈折率を発現することができる、表面改質ガラス基材を提供すること。
【解決手段】ガラス基材と電極との間に、単結合強度が１２６ｋＪ／ｍｏｌ以下の酸化物を形成するカチオンを酸化物に換算し１重量％以上含有するカチオン供与体を介在させ、前記ガラス基材に熱ポーリング処理を施すことにより、ガラス基材の表面を改質する。 （もっと読む）

【課題】入射光を回折する回折部が形成されたガラス基板を備える回折素子であって、従来にない構成を有する回折素子とその製造方法とを提供する。
【解決手段】入射光を回折する回折部が形成されたガラス基板を備える回折素子であって、ガラス基板はＡｇおよびＡｇよりも貴な金属から選ばれる少なくとも１種の元素（元素Ｘ）を含み、回折部が、以下の（ａ）および（ｂ）に示す元素Ｘの分布により、ガラス基板の内部に形成されている素子とする。（ａ）回折部に、元素Ｘの濃度が相対的に高い領域Ａと、当該濃度が相対的に低い領域Ｂとが形成されている。（ｂ）領域Ａは、ガラス基板における所定の方向へ伸びており、回折部における当該所定の方向とは垂直な断面を見たときに、領域Ａの少なくとも一部が領域Ｂをマトリクスとして周期的に配列している。 （もっと読む）

【課題】着色の程度が互いに異なる領域を含むガラス物品の製造方法であって、金属微粒子による着色の程度の低減をより低いエネルギーで実現できる製造方法を提供する。
【解決手段】電圧を印加するガラス物品が、ガラス板とガラス板上に形成された薄膜とを含み、ガラス板の導電率が薄膜の導電率より大きく、薄膜が金属微粒子を含有し、電圧を印加するための陽極および陰極の間に薄膜およびガラス板を配置しながらガラス物品に電圧を印加して、電圧印加領域において、薄膜中の金属微粒子の少なくとも一部をイオン化する。ガラス板の導電率を薄膜の導電率よりも大きくするために、互いに異なる導電率を発現する組成を有するガラス板および薄膜としてもよく、例えば、ガラス板がアルカリ金属元素を含み、かつ、ガラス板におけるアルカリ金属元素の含有率を、薄膜におけるアルカリ金属元素の含有率よりも高くしてもよい。 （もっと読む）