【課題】特定の処理雰囲気を必要とせず、また溶融塩を用いることなく、赤外線吸収能を有するガラス基材の所望部位に対して容易に屈折率分布を形成することにより、赤外線吸収能を有する屈折率分布型光学素子を簡便に製造する方法を提供する。
【解決手段】アルカリ金属成分を含み、鉄、銅、コバルト及びバナジウムからなる群から選択された少なくとも１種を含み、且つ、鉄、銅、コバルト及びバナジウムのうち、鉄を単独で含む場合には、鉄の含有量が、ガラス全体量を１００重量％としＦｅ_２Ｏ_３換算で３重量％を超えるガラス基材に、
リチウム化合物、カリウム化合物、ルビジウム化合物、セシウム化合物、銀化合物、銅化合物及びタリウム化合物からなる群から選択された少なくとも１種、有機樹脂並びに有機溶剤を含有するペーストを塗布し、ガラス基材の軟化温度より低い温度で熱処理することを特徴とする、赤外線吸収能を有する屈折率分布型光学素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 化学強化工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラス基板の表層部における圧縮応力の分布が一様となるようにして、ヘッドクラッシュ及びサーマル・アスペリティといった障害を防止しつつ磁気ヘッドの低フライングハイト化を図り高密度情報記録が可能であって、特に、携帯情報機器用の小型の磁気ディスクに適用して好適な磁気ディスク用ガラス基板を提供する。
【解決手段】 化学強化工程において、ガラス基板中のイオンよりもイオン半径の大きい第１のイオンを含有する第１の処理液（化学強化処理液）にガラス基板を接触させる第１工程と、ガラス基板中のイオンとのイオン交換の速度が第１のイオンよりも速い第２以降のイオンを含有する第２以降の化学強化処理液にガラス基板を接触させてイオン交換を減速させる第２以降の工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】耐破砕性を格段に向上した、薄型・軽量化に適用可能な高強度ガラス材を提供する。
【解決手段】Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕの群から選ばれた少なくとも一種の希土類元素を含み、さらに少なくともＳｉ元素とアルカリ金属元素を含有する酸化物系ガラスの表面部に圧縮応力層を形成した。希土類元素は、酸化物換算で１〜１０重量％、圧縮応力層はアルカリ金属イオン交換による化学強化によって形成される。酸化珪素とアルカリ酸化物からなるガラスの中に希土類酸化物を添加して高強度ガラス素材ＨＩＧとし、これに化学強化を施してガラス表面に化学強化層ＣＳＬを形成する。 （もっと読む）

本発明は、破断力を必要としないガラス板の切断方法に関する。本発明の方法は、次の工程、すなわち、ガラス板に処理を施して、係数Ｋが０．０５と０．４ＭＰａ・ｍ^1/2の間であるような二軸分布の応力を生じさせる工程であり、係数Ｋは、
【数１】


によって定義され、ここで、ｚは厚さ方向の位置であり、σ_zは位置ｚにおける本質的に等方的な二軸応力の強さであり、Ｈ（σ_z）は、伸びは正の値で表し、圧縮は負の値で表すという慣習に従って、σ_zが０より大きい場合は１に等しく、σ_zが０未満又は０に等しい場合は０に等しいものである工程、そして次に、所望の切断線に沿って１０μｍより深く、ガラスの伸張した領域に達するサブクラックの線を引く工程、を含む。本発明は、例えば、ガラスを破壊せずに曲率半径の小さな曲線に沿って切断するのに、厚さと同様の幅を有するガラスの帯を切断するのに、又は例えばフラット電界放出スクリーンのスペーサとして使用できるフレーム状のものを切断するのに、使用することができる。
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本発明は、薄膜堆積法のように高真空を必要とせず、また溶融塩を用いない光学素子の製造方法を提供する。
具体的には、本発明は、アルカリ金属成分をガラス構成成分として含むガラス基材に、リチウム化合物、カリウム化合物、ルビジウム化合物、セシウム化合物、銀化合物及びタリウム化合物から選ばれる少なくとも１種、有機樹脂並びに有機溶剤を含有するペーストを塗布し、ガラス基材の軟化温度より低い温度で熱処理することを特徴とする光学素子の製造方法を提供する。 （もっと読む）

本発明は、その表面から少なくとも１００μｍの交換深さにわたるアルカリイオンの濃度勾配と、少なくとも２００ＭＰａの表面応力と、少なくとも５５０℃の心材の歪み点とを有するように化学強化を受けたガラスに関する。本発明のガラスは、例えば、家庭調理の分野において熱分解オーブンの扉、フライパン、レンジ、ファイヤガード、煙道インサートとして使用でき、より一般的には異なる温度の２つの気体雰囲気を隔てるのに使用できる。このガラスは熱衝撃に対して特に耐性がある。 （もっと読む）