【課題】 高純度でシラノール基含量の極めて少ない合成石英ガラスを、効率よく得ることのできる石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 シリカを加熱し、第１加熱段階として１５０℃〜４００℃の温度範囲に３時間以上保持した後、第２加熱段階として１１００℃〜１３００℃の温度範囲に１時間以上保持する。 （もっと読む）