Fターム[4G072DD00]の内容
珪素及び珪素化合物 (39,499) | 粒径 (1,792)
Fターム[4G072DD00]の下位に属するFターム
1mm以上 (84)
1−0.1mm (120)
0.1−0.01mm (202)
0.01−0.001mm(10−1μm) (258)
1−0.1μm (350)
0.1−0.01μm (419)
0.01−0.001μm(10−1mμ) (247)
1−0.1mμ(nm) (70)
0.1mμ(1A)以下 (41)
Fターム[4G072DD00]に分類される特許
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金属シリコンからのボロン除去方法
【課題】金属シリコンから速い速度でボロンを除去する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ボロンを含有する金属シリコン多孔質体にプラズマを照射して溶融し、非酸化性雰囲気で冷却することを特徴とする金属シリコンからのボロン除去方法である。前記金属シリコン多孔質体は、充填率が60%以上であること、金属シリコン粉末を還元性ガス雰囲気下で焼結することによって調製されること、又は金属シリコン粉末を800℃以上で焼結することによって調製されること、などが好ましい。
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