Fターム[4G077FA00]の内容
結晶、結晶のための後処理 (61,211) | 後処理−拡散源、その配置 (19)
Fターム[4G077FA00]の下位に属するFターム
拡散源の組成、形状 (9)
固体拡散源と基板を接触させる (2)
液体拡散源と基板とを接触させるもの (4)
板状固体拡散源と基板とを並列に配置するもの (1)
その他 (3)
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結晶、結晶のための後処理 (61,211) | 後処理−拡散源、その配置 (19)
拡散源の組成、形状 (9)
固体拡散源と基板を接触させる (2)
液体拡散源と基板とを接触させるもの (4)
板状固体拡散源と基板とを並列に配置するもの (1)
その他 (3)
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