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Fターム[4G077FE01]の内容

結晶、結晶のための後処理 (61,211) | 後処理−加熱、冷却処理 (955) | 封管中での (2)

Fターム[4G077FE01]に分類される特許

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【課題】従来の蛍石に比べてレーザ耐久性がより一層優れた蛍石を提供する。
【解決手段】蛍石の(111)面をエッチングして得られるエッチピットの分布において、各エッチピットを母点としてVoronoi図を定義したとき(Voronoi分割)のVoronoi領域の面積(「Voronoi面積」と記す)の標準偏差が6000μm以下であるか、或いは、(111)面のエッチピットの分布をDelaunay分割した図形におけるDelaunay辺の距離の標準偏差が80μm以下である。 (もっと読む)


【課題】材料の利用効率が高い発光中心添加CsI柱状膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】柱状のCsI結晶から構成されるCsI柱状膜2を蒸着法により作製する工程と、CsI柱状膜2と発光中心原料1とを非接触な状態で閉空間3に配置し、CsI柱状膜2を、発光中心原料1の昇華温度以上、柱状の形態を維持可能な温度以下の範囲で加熱し、かつ発光中心原料1を昇華温度以上に加熱し、CsI柱状膜2に発光中心を添加する工程からなることを特徴とするシンチレータの製造方法。 (もっと読む)


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