Fターム[4G077FK00]の内容
結晶、結晶のための後処理 (61,211) | 後処理−装置、治具の特徴 (88)
Fターム[4G077FK00]の下位に属するFターム
反応管、均熱管、封管の形状、構造 (4)
基板支持体の形状、構造 (15)
雰囲気、気流の流れの調整のための治具 (1)
加熱、冷却のための装置、治具 (22)
基板の搬入、搬出のための装置、治具の構成 (2)
基板の連続処理のための装置的構成 (2)
気流の供給、排出のための装置的構成 (5)
基板を処理中に運動させるための構成(例;回転) (7)
装置、治具類の材質 (16)
その他 (14)
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